[发明专利]表面处理组合物、表面处理组合物的制造方法和表面经处理的物品

说明书

技术领域

本发明涉及i)用于在各种材料的表面上形成低表面能层或防污层的包含有机硅化合物的表面处理组合物，ii)所述表面处理组合物的制造方法和iii)施用了所述表面处理组合物的表面经处理的物品。

背景技术

抗反射涂层、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜、反射镜和其他的光学元件和卫生器具在使用时容易被指印、皮肤油脂、汗水、化妆品等污染。这样的污渍一旦粘附上就很难被除去，尤其是附着于具有抗反射涂层的光学部件的污渍极为醒目，并且造成各种问题。

为了解决与防污有关的这些问题，迄今已经提出了采用各种表面处理组合物的技术。

例如，日本审查专利公开第1994-29332号提出了一种防污的低反射塑料，其在表面上具有抗反射涂层，该抗反射涂层包含含有聚氟烷基的甲硅烷和乙硅烷化合物以及卤素、烷基或烷氧基硅烷化合物。

近来，WO2006/107083提出了一种表面处理组合物，所述组合物包含在氟聚合物链的末端具有烷氧基甲硅烷基官能团的有机硅化合物。该表面处理组合物提供了低表面能层，该低表面能层防止水分或污物附着在各种材料，尤其是抗反射膜等光学部件和玻璃的表面上。

不过，通过现今已知的方法形成的防污涂层的防污性不够充分，特别是，当长期使用时它们的耐沾污性明显降低。因此，需要开发具有优异的防污性和优异的耐久性的防污涂层。

发明内容

本发明旨在解决如上所述的现有技术的问题，并提供了一种表面处理组合物，该组合物形成了具有高度耐久性的优异的低表面能处理层，其防止水分或指印、皮肤油脂、汗水、化妆品等污物附着在各种材料，尤其是抗反射膜、光学部件和玻璃的表面上，并使得水分和污物即使在附着后也能够容易的擦除。

本发明的另一目的旨在提供用于制造能够形成具有高度耐久性的优异的低表面能层的表面处理组合物的方法。

本发明的又一目的旨在提供容易形成具有高度耐久性的优异的低表面能层的方法。

本发明的再一目的旨在提供设置有具有高度耐久性的优异的低表面能层的光学部件(例如，抗反射膜、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜和反射镜)和各种材料。

本发明提供了一种表面处理组合物，所述组合物包含由通式(A)表示的有机硅化合物：

F-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o-(CH₂)_p-X-(CH₂)_r-C₃H₆-Si(X')_3-a(R¹)_a    (A)

其中q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数；p为1或2；X是氧或二价有机基团；r为0～17的整数；R¹是不具有不饱和脂族键的直链或支化的烃基；a为0～2的整数；并且X'是独立选择的可水解基团，

其中，在所述表面处理组合物中由以下通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面处理组合物为小于25摩尔%：

F-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o-F  (B)

其中q、m、n和o与上述相同，

F-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o-(CH₂)_p-X-(CH₂)_r-CH=CHCH₃(C)

其中q、m、n、o、p、r和X与上述相同。