[发明专利]防止药物在聚合物薄膜中结晶的方法在审

专利信息
申请号: 201080051422.1 申请日: 2010-10-26
公开(公告)号: CN102770128A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: J·J·里昂哈德;W·穆勒 申请(专利权)人: LTS勒曼治疗系统股份公司
主分类号: A61K9/70 分类号: A61K9/70;A61K31/381
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 殷骏
地址: 德国安*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 防止 药物 聚合物 薄膜 结晶 方法
【权利要求书】:

1.防止药物在聚合物薄膜中结晶的方法,其特征在于,用于制备聚合物薄膜涂敷的含溶剂的涂层物料在有时高于涂层物料中所含药物的熔点至少10℃的温度下进行干燥,所述涂层物料包含形成基质的聚合物或聚合物混合物和至少一种药物。

2.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述温度有时高于所述药物的熔点15℃~25℃。

3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于,所述干燥温度不超过130℃。

4.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述涂层物料在高于药物熔点至少10℃的温度下干燥至少1分钟,优选地至少100秒钟,特别优选地至少3分钟。

5.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述涂层物料在高于药物熔点至少10℃的温度下干燥不长于15分钟,优选地不长于10分钟,特别优选地不长于5分钟。

6.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述形成基质的聚合物或者形成基质的聚合物混合物的至少一种聚合物选自下组物质,该组物质由聚硅氧烷,聚丙烯酸酯,聚异丁烯和嵌段共聚物组成。

7.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述形成基质的聚合物是一种耐胺的聚硅氧烷。

8.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述溶剂选自下组有机溶剂,该组有机溶剂由庚烷、己烷、环己烷、醋酸乙酯、乙醇、甲醇、异丙醇和四氢呋喃组成。

9.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述药物的熔点低于120℃,优选地低于115℃,特别优选地低于105℃。

10.根据上述权利要求之一的方法,其特征在于,所述药物选自下组物质,该组物质包括罗替戈汀和芬达尼。

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