[发明专利]曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的多个曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，

所述曝光方法的特征在于，具有：

将与所述各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于该光掩模的一掩模图案组的对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，使所述光掩模移动规定距离而从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组的阶段；

通过所述另一掩模图案组执行对所述被曝光体的下一曝光区域的曝光的阶段，

为了从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组，而控制所述光掩模的移动速度，以在从所述光掩模移动开始到移动停止的期间，使所述被曝光体的移动距离比所述光掩模的移动距离长。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

将所述光掩模的移动速度切换控制成从停止状态加速至规定速度的加速阶段、以所述规定速度移动的定速阶段、减速而直至停止的减速阶段。

3.根据权利要求2所述的曝光方法，其特征在于，

使所述定速阶段中的光掩模的移动速度比所述被曝光体的搬运速度快。

4.一种曝光装置，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的多个曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，

所述曝光装置的特征在于，具有：

搬运机构，其以规定速度搬运所述被曝光体；

掩模台，其与所述搬运机构的上表面对置配设，保持将与所述各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成的光掩模，并且在基于所述光掩模的一掩模图案组的对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，使所述光掩模移动规定距离而从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组；

控制机构，其控制所述掩模台的移动，

所述控制机构为了从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组，而控制所述掩模台的移动速度，以在从所述光掩模移动开始到移动停止的期间，使所述被曝光体的移动距离比所述光掩模的移动距离长。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制机构将所述掩模台的移动速度切换控制成从停止状态加速至规定速度的加速阶段、以所述规定速度移动的定速阶段、减速而直至停止的减速阶段。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制机构进行控制，以使所述定速阶段中的掩模台的移动速度比所述被曝光体的搬运速度快。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述光掩模包括以所述多种掩模图案组为1组而将这样多组隔开规定间隔排列成一列而成的第一及第二光掩模，所述第一及第二光掩模彼此沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向错开规定尺寸配置，从而使所述多组掩模图案组沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向以规定间距互不相同地排列。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

在所述第一及第二光掩模的多种掩模图案组的同种的掩模图案组中，在所述被曝光体的搬运方向观察下相邻的两个掩模图案组的位于端部区域的掩模图案彼此重叠，并且，位于所述端部区域的掩模图案与所述掩模图案组的位于中央部的掩模图案的形状不同，以便于通过所述相邻的两个掩模图案组的对应的掩模图案的重叠曝光来得到规定的曝光量。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一及第二光掩模的各掩模图案组的位于端部区域的掩模图案与所述被曝光体的搬运方向大致正交地以规定间距分割成多个。

10.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一及第二光掩模的各掩模图案组的位于端部区域的掩模图案与所述被曝光体的搬运方向大致正交地以规定间隔分割成多个微小图案，并且以所述多个微小图案的面积的总和成为规定值的方式设定各微小图案的尺寸。