[发明专利]曝光方法及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运并在被曝光体上配置的多个曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案的曝光方法及曝光装置，详细而言，涉及要提高多种曝光图案的形成效率的曝光方法及曝光装置。

背景技术

以往，这种曝光方法将被曝光体沿着一方向搬运，并同时选择光掩模的一掩模图案组，通过该一掩模图案组在被曝光体的规定的曝光区域上曝光形成一曝光图案组，接下来，暂时使上述被曝光体返回到曝光开始前的待机位置之后，将光掩模的掩模图案组切换成另一掩模图案组，然后，再次开始被曝光体的搬运，通过上述另一掩模图案组在被曝光体的另一曝光区域上曝光形成另一曝光图案组(例如，参照专利文献1)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-310217号公报

发明内容

【发明要解决的课题】

然而，在这种以往的曝光方法中，在基于一个掩模图案组的曝光结束时，使被曝光体暂时返回到曝光开始前的待机位置，因此对被曝光体的全部的曝光结束为止的被曝光体的总移动距离在要形成的曝光图案的种类越多时越长。因此，要在同一被曝光体上形成多种曝光图案时，存在曝光图案的形成效率差这样的问题。

因此，本发明针对这种问题点，目的在于提供一种提高对同一被曝光体的多种曝光图案的形成效率的曝光方法及曝光装置。

【用于解决课题的手段】

为了实现上述目的，本发明的曝光方法将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的多个曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，所述曝光方法的特征在于，具有：将与所述各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于该光掩模的一掩模图案组的对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，使所述光掩模移动规定距离而从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组的阶段；通过所述另一掩模图案组执行对所述被曝光体的下一曝光区域的曝光的阶段，为了从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组，而控制所述光掩模的移动速度，以在从所述光掩模移动开始到移动停止的期间，使所述被曝光体的移动距离比所述光掩模的移动距离长。

通过这种结构，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，在基于将多种掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成的光掩模的一掩模图案组的对被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，以使被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长的方式控制光掩模的移动速度，并同时使光掩模移动规定距离而从一掩模图案组切换成另一掩模图案组，通过另一掩模图案组执行对被曝光体的下一曝光区域的曝光。

另外，将所述光掩模的移动速度切换控制成从停止状态加速至规定速度的加速阶段、以所述规定速度移动的定速阶段、减速而直至停止的减速阶段。由此，将光掩模的移动速度切换控制成从停止状态加速至规定速度的加速阶段、以规定速度移动的定速阶段、减速而直至停止的减速阶段，从而从一掩模图案组切换成另一掩模图案组。

并且，使所述定速阶段中的光掩模的移动速度比所述被曝光体的搬运速度快。由此，使定速阶段中的光掩模的移动速度比被曝光体的搬运速度快，从而从一掩模图案组切换成另一掩模图案组。

另外，本发明的曝光装置将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的多个曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，所述曝光装置的特征在于，具有：搬运机构，其以规定速度搬运所述被曝光体；掩模台，其与所述搬运机构的上表面对置配设，保持将与所述各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成的光掩模，并且在基于所述光掩模的一掩模图案组的对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，使所述光掩模移动规定距离而从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组；控制机构，其控制所述掩模台的移动，所述控制机构为了从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组，而控制所述掩模台的移动速度，以在从所述光掩模移动开始到移动停止的期间，使所述被曝光体的移动距离比所述光掩模的移动距离长。

通过这种结构，利用搬运机构将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，在基于将多种掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成的光掩模的一掩模图案组的对被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，以使被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长的方式利用控制机构控制掩模台的移动速度，并同时使光掩模移动规定距离而从一掩模图案组切换成另一掩模图案组，通过另一掩模图案组执行对被曝光体的下一曝光区域的曝光。