[发明专利]平面光波电路以及平面光波电路的制造方法无效
| 申请号： | 201080058035.0 | 申请日： | 2010-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102667555A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 阵内启光;内藤正彦;村泽敦志 | 申请（专利权）人： | NTT电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B6/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 高科 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平面 光波 电路 以及 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种平面光波电路，其特征在于，具备：
包含多个光波导的至少两个干涉仪；以及
配置在所述干涉仪中、具有比最大的光波导密度小的光波导密度的所述干涉仪的所述光波导的两侧的虚拟图案。
2.根据权利要求1所述的平面光波电路，其特征在于，
所述虚拟图案具有与所述干涉仪的所述光波导相同的材质。
3.根据权利要求1或者2所述的平面光波电路，其特征在于，
所述虚拟图案具有与具有最大的光波导密度的所述干涉仪大致相同的光波导密度。
4.一种平面光波电路的制造方法，其特征在于，具有：
成膜工序，在基板上依次形成下部包覆层以及芯层；以及
蚀刻工序，在所述成膜工序之后，当保留成为光波导的部分以及成为配置在所述光波导的两侧的虚拟图案的部分地对所述芯层进行蚀刻时，通过蚀刻去除的所述芯层下方的下部包覆层也在厚度方向上被去除了一部分。
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