[发明专利]曝光装置有效
申请号: | 201080058060.9 | 申请日: | 2010-12-09 |
公开(公告)号: | CN102668025A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 水村通伸 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张远 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
技术领域
本发明涉及对由电光晶体材料构成的开关元件进行驱动来生成规定的明暗图案,并将该明暗图案曝光在被曝光体上的曝光装置,详细来说,涉及对曝光位置进行模拟控制来提高曝光图案的定位精度的曝光装置。
背景技术
现有技术的这种曝光装置,通过将由电光晶体材料构成的多个开关元件在二维平面内进行排列而成的图案产生器,来生成规定的图案,并对正在向一个方向输送的被曝光体曝光该图案,上述图案产生器,在被曝光体的输送方向以规定间隔配置多列开关元件列,并且将相邻的开关元件列彼此在与被曝光体的输送方向正交的方向偏离规定量来进行配置,其中该开关元件列是将多个开关元件在与被曝光体的输送方向正交的方向上以规定间距配置成一条直线状而成的(例如参照专利文献1)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:JP特开2007-310251号公报
发明概要
发明要解决的课题
但是,在这样的现有技术的曝光装置中,由于曝光位置的分辨率由开关元件的端面大小(像素大小)以及开关元件列向与被曝光体的输送方向正交的方向的偏离量而决定,因此为了提高曝光位置的分辨率,必须使像素大小变小,并且使开关元件列向与被曝光体的输送方向正交的方向的偏离量变小,存在图案产生器的制造困难、部件成本提高之虞。
发明内容
因此,本发明的目的在于,提供一种应对这样的问题,对曝光位置进行模拟控制,以提高曝光图案的定位精度的曝光装置。
用于解决课题的技术手段
为了实现上述目的,本发明的曝光装置,具备:光束点生成单元,其接受光源光并以规定间隔相互错开地至少排列成2列而生成多个光束点;光扫描单元,其使上述多个光束点沿它们的排列方向在各自的规定范围内进行往返扫描;图案产生器,其被配置为使上述多个光束点的往返扫描的中心各自与中心轴一致,且通过多个开关元件进行接通/断开驱动,从而对上述光源光进行光调制来生成规定的明暗图案,其中,上述多个开关元件在与上述中心轴平行的对置面设置了一对电极,形状为方柱状,由电光晶体材料构成;和投影透镜,其将上述明暗图案投影在被曝光体上,使上述各开关元件在上述光束点的扫描方向的宽度比上述光束点在相同方向的宽度大。
通过采用这样的结构,通过光束点生成单元接受光源光,以规定间隔相互错开地至少排列成2列以生成多个光束点,通过光扫描单元使该多个光束点在它们的排列方向上在各自的规定范围内进行往返扫描,通过图案产生器配置为使上述多个光束点的往返扫描的中心各自与中心轴一致,通过对在与该中心轴平行的对置面设置了一对电极的方柱状的由电光晶体材料构成的多个开关元件进行接通/断开驱动,从而对光源光进行光调制来生成规定的明暗图案,通过投影透镜将该明暗图案投影在被曝光体上。这种情况下,通过使各开关元件在光束点的扫描方向的宽度比光束点在相同方向的宽度大,使光束点在开关元件上进行扫描,并对开关元件的驱动定时进行控制,从而对被曝光体上的明暗图案的位置进行模拟控制。
另外,上述光束点生成单元是将多个聚光透镜在平面内排列而成的微透镜阵列。这样,通过将多个聚光透镜在平面内进行排列而成的微透镜阵列来生成多个光束点。
进而,上述光束点生成单元是在平面内排列多个开口而成的光掩模。这样,通过在平面内具有多个开口的光掩模便生成多个光束点。
进而,另外,上述光扫描单元在方形块状的电光晶体材料的对置侧面使规定宽度的一对带状电极按照其长边中心轴与上述侧面的长宽中的任一方的中心轴呈规定角度的方式形成倾斜,并使光在该一对电极之间通过。这样,通过在方形块状的电光晶体材料的对置侧面使规定宽度的一对带状电极按照其长边中心轴与上述侧面中长宽的任一方的中心轴呈规定角度的方式形成倾斜,并使光在该一对电极之间通过的光扫描单元,使多个光束点分别在规定范围内进行往返扫描。
并且,上述被曝光体被设置为沿着与上述光束点的扫描方向大致正交的方向连续地移动。这样,一边在与光束点的扫描方向大致正交的方向对被曝光体进行连续移动,一边进行曝光。
发明效果
根据第一技术方案涉及的本发明,由于使开关元件在光束点的扫描方向的宽度比光束点在相同方向的宽度更大,故而能够使光束点在开关元件上进行扫描。因而,通过对开关元件的驱动定时进行控制,从而能够对通过多个开关元件进行光调制并对在被曝光体上形成的明暗图案的位置进行模拟控制。这样,即使是将多个开关元件至少排列成2列而成的简单构成的图案产生器,也既能够使曝光图案的定位精度提高,又能够降低装置的制造成本。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造