[发明专利]在镀的过程中保持衬底表面湿润的工艺

权利要求书

1.用于通过包括集成无电沉积工艺的工艺处理衬底的方法，其包括：

（a）在无电沉积模块中处理所述衬底的表面以用沉积流体在所述衬底的导电特征上方沉积层；

（b）在所述无电沉积模块中用漂洗流体漂洗所述衬底的所述表面，所述漂洗是受控制的以防止所述表面的去湿使得由所述漂洗流体限定的转移膜仍然被涂布在所述衬底的所述表面上；

（c）将所述衬底移除出所述无电沉积模块，同时将所述转移膜保持在所述衬底的所述表面上，所述衬底的所述表面上的所述转移膜防止所述衬底的所述表面的干燥使得所述移除是湿润的；以及

（d）所述衬底一旦从所述无电沉积模块被移除，其便被移动到后沉积模块中，所述衬底的所述移动进行时在所述衬底的所述表面上保持所述转移膜。

2.如权利要求1所述的方法，其中控制所述漂洗进一步包括，

在所述漂洗流体中包括表面活性剂，所述表面活性剂使得能够润湿所述衬底的所述表面以便用来自所述漂洗流体的所述转移膜均匀地涂布所述衬底的所述表面。

3.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

在所述后沉积模块的化学模块中接收所述衬底，同时所述衬底因所述转移膜是湿润的；

在所述衬底的所述表面上施加含酸流体以从所述衬底的所述表面的不打算接收所述沉积流体的区域移除所述沉积流体的痕迹；以及

施加漂洗流体以从所述衬底的所述表面移除所述含酸流体，所述漂洗流体是受控的以在所述衬底的所述表面上限定转移膜以便防止去湿。

4.如权利要求3所述的方法，进一步包括：

将所述衬底移出所述化学模块，同时所述衬底的所述表面因有所述转移膜是湿润的；

将所述衬底插入所述后沉积模块的刷洗模块中；

用擦洗化学品擦洗所述衬底；以及

留下因有由所述擦洗化学品限定的转移膜而湿润的所述衬底，所述转移膜保持所述衬底的所述表面湿润。

5.如权利要求4所述的方法，进一步包括：

将所述衬底移出所述刷洗模块，同时所述衬底的所述表面因有所述转移膜是湿润的；以及

将所述衬底插入清洁模块中。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述清洁模块是被配置来漂洗和干燥所述衬底的邻近头。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述沉积流体包括钴以便所述衬底的所述导电特征上方的所述层限定钴帽盖材料。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述转移膜作为阻挡层以避免暴露于氧从而防止形成于所述衬底的所述导电特征上方的沉积的所述层的氧化、化学反应、或转变。

9.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

在执行（a）之前，在所述无电沉积模块中在所述衬底的所述表面上进行预清洁操作；以及

当执行（a）时，在所述无电沉积模块中施加所述沉积流体同时保持温度和环境条件以使利用所述沉积流体在所述衬底的所述导电特征上方沉积所述层的沉积反应能够发生。

10.用于通过包括集成无电沉积工艺的工艺处理衬底的方法，其包括：

（a）在无电沉积模块中处理所述衬底的表面以用沉积流体在所述衬底的导电特征上方沉积层；

（b）在所述无电沉积模块中用漂洗流体漂洗所述衬底的所述表面；

（c）在所述无电沉积模块中施加处理流体，所述处理流体限定转移膜，所述处理流体的施加是受控的以在所述转移膜仍然被涂布在所述衬底的所述表面上的同时防止所述表面的去湿以及化学处理所述表面；

（d）将所述衬底移除出所述无电沉积模块，同时将所述转移膜保持在所述衬底的所述表面上，所述衬底的所述表面上的所述转移膜防止所述衬底的所述表面的干燥使得所述衬底在湿润的情况下被移除；以及

（e）所述衬底一旦从所述无电沉积模块被移除，其便被移动到后沉积模块中，所述衬底的所述移动进行时在所述衬底的所述表面上保持所述转移膜。