[发明专利]乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液及使用其的乳胶掩膜

权利要求书

1.一种乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，其是用于在乳胶掩膜上形成保护膜的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其具有如下成分，即

包含(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系单体中的至少任一种的第一成分，以及

包含可与所述第一成分共聚的反应性亲水性物质的第二成分。

2.根据权利要求1所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，所述反应性亲水性物质为(甲基)丙烯酸改性的亲水性物质。

3.根据权利要求2所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸改性的亲水性物质为(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯及(甲基)丙烯酸改性的季铵盐中的至少任一种。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，所述第二成分占所述保护液的总固体成分的10～30重量％。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，所述第一成分占所述保护液的总固体成分的50～89重量％。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，其进一步具有第三成分，所述第三成分包含具有与所述第一成分及所述第二成分中的至少任一种反应的基团的反应性硅油。

7.根据权利要求6所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其特征在于，所述第三成分占所述保护液的总固体成分的0.5～20重量％。

8.一种乳胶掩膜，其是具有保护膜的乳胶掩膜，其特征在于，所述保护膜是使用权利要求1～7任一项所述的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液而形成的。

9.根据权利要求8所述的乳胶掩膜，其特征在于，所述保护膜是以0.1～10μm的厚度而形成的。