[发明专利]乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液及使用其的乳胶掩膜

说明书

技术领域

本发明是有关乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液，其可用以缩短形成保护膜的时间，尤其有关乳胶掩膜与保护膜的粘接性以及保护膜的表面硬度优异的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液以及乳胶掩膜。

背景技术

通常，对于在钠玻璃(soda glass)、石英玻璃、光学玻璃等的基板上以银盐乳剂(乳胶)作为遮光膜而形成有图案的乳胶掩膜而言，遮光膜因柔软而易于刮伤，不可能利用溶剂等进行湿式洗涤。另外，伴随着玻璃掩膜尺寸的大型化因自身重量引起的弯曲等而使精度降低，因而为了提高掩膜精度而实施接触曝光时会产生遮光膜磨损的问题。

鉴于这些状况，考虑到在乳胶掩膜上的与光致抗蚀层相对置的面上设置具有脱模性的保护膜，以防止光致抗蚀剂附着于乳胶掩膜上，且考虑到将具有保护膜的表面保护薄膜贴合于乳胶掩膜的与光致抗蚀层相对置的面上。

然而，贴合表面保护薄膜时，存在因表面保护薄膜的厚度造成紫外线(UV)透射率下降而引起曝光精度降低，或在贴合时因气泡进入等引起曝光精度降低的问题(专利文献1)。

因此，考虑到在乳胶掩膜上的与光致抗蚀层相对置的面上直接设置保护膜(专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-258603号公报(现有技术)

专利文献2：日本特开2002-278047号公报(权利要求1)

发明内容

发明所要解决的问题

然而，近年来，为了削减生产成本，而要求有在短时间内形成该保护膜，利用热固化形成的保护膜中无法获得满足该要求的保护膜。

因此本发明的目的为提供一种可在短时间内形成保护膜、乳胶掩膜与保护膜的粘接性、及保护膜的表面硬度优异的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液及使用其的乳胶掩膜。

用于解决问题的方案

为解决上述课题而积极研究的结果，已知保护膜的形成时间与保护膜中所含热固化型树脂的固化时间有关，为了在短时间内形成保护膜，通过使用固化时间为短时间的电离辐射线固化型树脂，而不是固化时间长的热固化型树脂，可解决上述课题。然而，已知的是仅从热固化型树脂改变成电离辐射线固化型树脂，乳胶掩膜与保护膜的粘接性不足，而使保护膜的耐久性变差。因而，发现通过在保护液中添加反应性亲水性物质，可提高乳胶掩膜与保护膜的粘接性，及提高保护膜的表面硬度，从而解决该问题。

即，本发明的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液的特征在于，其具有包含(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系单体的第一成分，及包含可与前述第一成分共聚的反应性亲水性物质的第二成分。

优选的是，前述反应性亲水性物质为(甲基)丙烯酸改性的亲水性物质。

优选的是，前述(甲基)丙烯酸改性的亲水性物质为(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯和/或(甲基)丙烯酸改性的季铵盐。

优选为前述保护液总固体成分含有10～30重量％的前述第二成分。

优选为前述保护液总固体成分含有50～89重量％的前述第一成分。

优选的是，进一步具有第三成分，所述第三成分包含与前述第一成分及前述第二成分中的至少任一种反应的基团的反应性硅油。

优选的是，使用具有(甲基)丙烯酸基的硅油作为前述反应性硅油。

优选为前述保护液总固体成分含有0.5～20重量％的前述第三成分。

另外，本发明的乳胶掩膜的特征在于，其具有保护膜，且该保护膜是使用前述乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液而形成的。

优选的是，前述保护膜是以0.1～10μm的厚度而形成的。

优选的是，前述保护膜以1kg的荷重使钢棉#0000来回10次时不会产生伤痕。

发明效果

本发明的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液可以短时间形成保护膜，且可获得乳胶掩膜与保护膜的粘接性优异、保护膜的表面硬度优异的乳胶掩膜。

对于使用本发明的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液形成保护膜的乳胶掩膜，其由于可以短时间形成保护膜，故可削减生产成本，且可成为乳胶掩膜与保护膜的粘接性优异、保护膜的表面硬度优异的乳胶掩膜。

具体实施方式

针对本发明的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液的实施方式加以说明。本发明的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液包含作为第一成分的(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系单体，及作为第二成分的可与前述低聚物和/或单体共聚的反应性亲水性物质。