[发明专利]有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法无效

专利信息
申请号: 201110001140.7 申请日: 2011-01-06
公开(公告)号: CN102130149A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 沈伟;言学梅;金阳;沈鸣;范红 申请(专利权)人: 浙江贝力生科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 绍兴市越兴专利事务所 33220 代理人: 蒋卫东
地址: 312071 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示器 密封 盖板 mark 加工 方法
【说明书】:

技术领域

发明公开了一种有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,属于有机发光显示器的密封技术领域。

背景技术

传统的有机发光显示器密封盖板加工工艺分为玻璃基材清洗、掩膜、贴保护膜、蚀刻(包括掩膜曝光工序)、Mark点加工、脱膜、成品清洗、检验等工序。

Mark点是有机发光显示器(OLED)批量生产中一个必须的重要标识,依据OLED密封盖板上的Mark点,有机发光显示器(OLED)生产线能自动识别、自动对位。传统工艺中Mark点加工方法为对密封盖板先行加工,然后再加工Mark点,这种工艺的主要缺陷是由于盖板加工和Mark加工点定位要分两次进行,造成Mark点定位不准确,标识精度不高。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一种Mark点定位和曝光同时进行的有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法。

为实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:

一种有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,包括如下步骤:

⑴ 密封盖板掩膜曝光过程中,在对盖板尺寸进行定位的同时实现对Mark点定位,定位方法是在密封盖板的上下两表面各附着一张定位胶片基板,各定位胶片基板上均标注有密封盖板的图形尺寸和Mark点的相对位置;

⑵ 将曝光好的密封盖板放置到加工中心操作台上,钻头对准经步骤 ⑴ 而得到的Mark定位点;

⑶ 启动加工中心,钻头转速为1700-2100转/秒,钻头角度为垂直于密封盖板,运转时间为2-4秒;其中钻头转速优选为1800-1900转/秒;

⑷ 按步骤⑵-⑶加工其他三个Mark点;

⑸ 将加工好的Mark点放在检验仪器上进行精度检验。

本发明有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,将Mark点定位和曝光同时进行,极大缩小了定位误差,实现了标识清晰、定位精确、易被生产线自动识别等技术突破,并缩短了加工时间,提高了生产效率。

具体实施方式

本发明有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,包括如下步骤:

⑴ 密封盖板掩膜曝光过程中,在对盖板尺寸进行定位的同时实现对Mark点定位,定位方法是在密封盖板的上下两表面各附着一张定位胶片基板,各定位胶片基板上均标注有密封盖板的图形尺寸和Mark点的相对位置。由此实现对Mark点的定位。

⑵ 将曝光好的密封盖板放置到加工中心操作台上,钻头对准经步骤 ⑴ 而得到的Mark定位点。

⑶ 启动加工中心,钻头转速为1700-2100转/秒,优选为1800-1900转/秒,钻头角度为垂直于密封盖板,运转时间为2-4秒。其中,加工孔径的大小根据客户的具体需求而定。

⑷ 按步骤⑵-⑶加工其他三个Mark点。

⑸ 将加工好的Mark点放在检验仪器上进行精度检验。

上述实施例仅用于解释说明本发明的发明构思,而非对本发明权利保护的限定,凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动,均应落入本发明的保护范围。

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