[发明专利]有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法无效
申请号: | 201110001140.7 | 申请日: | 2011-01-06 |
公开(公告)号: | CN102130149A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 沈伟;言学梅;金阳;沈鸣;范红 | 申请(专利权)人: | 浙江贝力生科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52 |
代理公司: | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人: | 蒋卫东 |
地址: | 312071 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示器 密封 盖板 mark 加工 方法 | ||
技术领域
本发明公开了一种有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,属于有机发光显示器的密封技术领域。
背景技术
传统的有机发光显示器密封盖板加工工艺分为玻璃基材清洗、掩膜、贴保护膜、蚀刻(包括掩膜曝光工序)、Mark点加工、脱膜、成品清洗、检验等工序。
Mark点是有机发光显示器(OLED)批量生产中一个必须的重要标识,依据OLED密封盖板上的Mark点,有机发光显示器(OLED)生产线能自动识别、自动对位。传统工艺中Mark点加工方法为对密封盖板先行加工,然后再加工Mark点,这种工艺的主要缺陷是由于盖板加工和Mark加工点定位要分两次进行,造成Mark点定位不准确,标识精度不高。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供一种Mark点定位和曝光同时进行的有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法。
为实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:
一种有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,包括如下步骤:
⑴ 密封盖板掩膜曝光过程中,在对盖板尺寸进行定位的同时实现对Mark点定位,定位方法是在密封盖板的上下两表面各附着一张定位胶片基板,各定位胶片基板上均标注有密封盖板的图形尺寸和Mark点的相对位置;
⑵ 将曝光好的密封盖板放置到加工中心操作台上,钻头对准经步骤 ⑴ 而得到的Mark定位点;
⑶ 启动加工中心,钻头转速为1700-2100转/秒,钻头角度为垂直于密封盖板,运转时间为2-4秒;其中钻头转速优选为1800-1900转/秒;
⑷ 按步骤⑵-⑶加工其他三个Mark点;
⑸ 将加工好的Mark点放在检验仪器上进行精度检验。
本发明有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,将Mark点定位和曝光同时进行,极大缩小了定位误差,实现了标识清晰、定位精确、易被生产线自动识别等技术突破,并缩短了加工时间,提高了生产效率。
具体实施方式
本发明有机发光显示器密封盖板Mark点的加工方法,包括如下步骤:
⑴ 密封盖板掩膜曝光过程中,在对盖板尺寸进行定位的同时实现对Mark点定位,定位方法是在密封盖板的上下两表面各附着一张定位胶片基板,各定位胶片基板上均标注有密封盖板的图形尺寸和Mark点的相对位置。由此实现对Mark点的定位。
⑵ 将曝光好的密封盖板放置到加工中心操作台上,钻头对准经步骤 ⑴ 而得到的Mark定位点。
⑶ 启动加工中心,钻头转速为1700-2100转/秒,优选为1800-1900转/秒,钻头角度为垂直于密封盖板,运转时间为2-4秒。其中,加工孔径的大小根据客户的具体需求而定。
⑷ 按步骤⑵-⑶加工其他三个Mark点。
⑸ 将加工好的Mark点放在检验仪器上进行精度检验。
上述实施例仅用于解释说明本发明的发明构思,而非对本发明权利保护的限定,凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动,均应落入本发明的保护范围。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的