[发明专利]正型光敏组合物无效
申请号: | 201110004262.1 | 申请日: | 2011-01-11 |
公开(公告)号: | CN102141732A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 姜锡灿;李进翰 | 申请(专利权)人: | 韩国锦湖石油化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李中奎;黄志华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光敏 组合 | ||
1.一种光敏树脂组合物,基于100重量份的聚酰胺衍生物,该光敏树脂组合物包含0.1到20重量份的多面体低聚硅倍半氧烷衍生物,和5到30重量份的光致生成酸化合物。
2.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述聚酰胺衍生物由以下化学式1表示:
[化学式1]
其中R1、R2、R4和R5各自独立地表示具有至少2个碳原子的二价到六价的芳基;R3表示氢原子或者具有1到10个碳原子的烷基;k表示10到1000的整数;l表示1到1000的整数;n和m各自独立地表示0到2的整数(n+m>0);且X表示氢原子或者具有2到30个碳原子的芳基。
3.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述聚酰胺衍生物化合物由以下化学式2表示:
[化学式2]
其中R1和R2各自独立地表示具有至少2个碳原子的二价到六价的芳基;R3表示氢原子或者具有1到10个碳原子的烷基;l表示10到1000的整数;n和m各自独立地表示0到2的整数(n+m>0);X表示氢原子或者具有2到30个碳原子的芳基。
4.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述多面体低聚硅倍半氧烷衍生物可由以下化学式3表示:
[化学式3]
(RSiO3/2)n,
R表示氢原子,具有1到30个碳原子的取代或未取代的脂肪族或芳香族单键,以及包含硅、氧、硫和氮中的一种的有机基中的一个,且n表示6到14的一个整数。
5.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述多面体低聚硅倍半氧烷衍生物可由以下化学式4表示:
[化学式4]
(RSiO3/2)1(RXSiO)m,
R表示氢原子,具有1到30个碳原子的取代或未取代的脂肪族或芳香族单键,以及包含硅、氧、硫和氮中的一种的有机基中的一个,X表示O R′,R′表示氢原子、烷基、芳基和卤原子中的一种,l表示一个4到15的整数,且k表示一个1到5的整数。
6.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述光致生成酸化合物包含重氮萘酚。
7.如权利要求1所述的光敏树脂组合物,进一步包括从由防腐蚀制剂、表面活性剂和防泡剂组成的组中选择的至少一种添加剂。
8.一种图案形成方法,包括:
在基板上施加光敏树脂组合物,基于100重量份的聚酰胺衍生物,所述光敏树脂组合物包含0.1到20重量份的多面体低聚硅倍半氧烷衍生物,和5到30重量份的光致生成酸化合物;
干燥施加了所述光敏树脂组合物的基板;
曝光被干燥的所述基板;
显影经曝光的基板;且
热处理经显影的基板。
9.一种包含以图案形成方法形成的图案层的半导体设备,所述图案形成方法包括:
在基板上施加光敏树脂组合物,基于100重量份的聚酰胺衍生物,所述光敏树脂组合物包含0.1到20重量份的多面体低聚硅倍半氧烷衍生物,和5到30重量份的光致生成酸化合物;
干燥施加了所述光敏树脂组合物的基板;
曝光被干燥的所述基板;
显影经曝光的基板;且
热处理经显影的基板。
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