[发明专利]一种电子工业含氟含氨氮废水的处理方法

说明书

技术领域

本发明属于废水处理技术领域，特别涉及电子工业含氟含氨氮废水的处理方法。

背景技术

随着电子工业技术特别是集成电路芯片工业技术的发展，电子工业废水特别是电子工业含氟含氨氮废水处理成为水处理行业中的突出难题。电子工业通常在生产制程中使用了如氢氟酸、硫酸、磷酸、氨水、盐酸、有机溶剂等大量的化学药剂，使得排放的废水含有大量的对周边环境有污染的成分，加剧了我国水污染和水资源短缺形势的严竣程度。

电子工业含氟含氨氮废水具有水量大，污染成分复杂，污染性强，可生化性差，总溶解固体盐(TDS)、氨氮和氟化物含量高等特点。电子企业(集成电路芯片企业)目前对这种类型的废水没有成熟有效的处理方法，一般情况下在经过简单的除氟处理后，只能排入城市污水处理厂集中处理。由于该类废水可生化性差(BOD/COD＜0.1)，且由于城市污水处理厂工艺技术的局限性，出水中总氮往往不达标，容易导致排放水体的富营养化，特别是对某些特定污染物(比如氟)不能有效去除而只能靠稀释降低浓度。面临日趋严重的生态环境，国家要求工业企业必须贯彻“节能减排”的方针政策，在对工业企业用水大户的环评批复中除了要求废水达标排放外，也明确要求废水必须达到一定的回用率，常规的处理方法已经不能有效地减少污染物的排放更不可能实现通过废水再生回用来有效减少废水的排放量，实现循环经济。因此，必须在废水处理过程中改进处理工艺，最大限度减少污染物的排放量，减轻对周边环境的污染，同时提高废水的再生回用率，节约宝贵的水资源。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是为了克服现有技术的不足，提供一种电子工业含氟含氨氮废水的处理方法，其能够以较低的成本，快速、有效地除去废水中的氟离子和氨氮。

为解决以上技术问题，本发明采取如下技术方案：

一种电子工业含氟含氨氮废水的处理方法，所述电子工业含氟含氨氮废水中氟离子含量为不低于20mg/L，氨氮含量为不低于15mg/L，所述处理方法包括如下步骤：

(1)、除氨氮工序：向废水中通入含氯氧化剂使废水中的氨氮与含氯氧化剂反应转化为氮气而去除，所述含氯氧化剂为液态或气态的Cl₂，且以废水中1mg/L氨氮投入7.6～8.0mg/L Cl₂的比例向废水中加入Cl₂，其中，分二批次投加Cl₂，其中第一批次加入量为65～75％，剩余的第二批加入，在投加了第一批次Cl₂之后，加入与第一批次所投加的Cl₂等当量的碱以中和Cl₂与氨氮反应产生的盐酸，然后再投加第二批次Cl₂；

(2)、除氟工序：采取化学反应沉淀与混凝沉淀分离相结合的方式，其中化学反应沉淀是指向废水中加入含钙离子的物质和在pH 6～7的条件下使废水中的氟离子反应转化为氟化钙，所述含钙离子的物质为选自氧化钙、氢氧化钙或可溶性钙盐中的一种或多种的组合，且以废水中1mg/L氟离子投入2.3～2.5mg/L钙离子的比例向反应池中添加含钙离子的物质，所述混凝沉淀分离是指使生成的氟化钙在混凝剂的作用下化学脱稳形成絮体以增强沉淀效果，再通过沉淀与水分离。

优选地，步骤(1)和步骤(2)具体的实施方式视废水中氟离子与氨氮含量之比的不同而不同，具体如下：

当电子工业含氟含氨氮废水中氨氮含量与氟离子含量之比小于1∶2.5时，在步骤(1)中，加入的所述碱为氢氧化钙；步骤(2)中，向完成步骤(1)之后的废水中加入氢氧化钙以调节pH在6～7之间，然后再投加可溶性钙盐，之后，在搅拌的状态下加入混凝剂，其中，步骤(1)中所加入的氢氧化钙、步骤(2)所加入的氢氧化钙和可溶性钙盐的总投入量满足废水中1mg/L氟离子投入2.3～2.5mg/L钙离子的比例要求，上述步骤均在一个反应池内进行，之后，使反应池的出水自流进入澄清池沉淀1～2小时得到氟离子浓度不高于9mg/L的上层上清液和沉淀污泥。