[发明专利]壳体及其制造方法无效
申请号: | 201110020635.4 | 申请日: | 2011-01-18 |
公开(公告)号: | CN102595834A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;万自成 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H05K5/04 | 分类号: | H05K5/04;B32B9/04;B32B15/20;B44C5/04 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 壳体 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制造方法。
背景技术
随着科技的不断进步,手机、个人数字助理(PDA,Personal Digital Assistant)、及计算机等各式电子装置也迅速发展,其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳,或藉由喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色料层。然而,塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金属质感。另一方面,由于真空镀膜技术本身较为复杂而不易精密操控,现有技术中于壳体表面形成的金属真空镀膜层的色彩有限,与烤漆、阳极处理等工艺相比,真空镀膜层的颜色不够丰富,限制了其在装饰镀膜领域的竞争力。同时通过PVD溅镀的色彩膜层的耐磨性能普遍不佳,从而在使用中会发生壳体异色、脱落等现象,难以维持长久良好的装饰外观。
发明内容
鉴于此,提供一种具有良好耐磨性及装饰性外观的壳体。
另外,还提供一种上述壳体的制造方法。
一种壳体,包括铝或铝合金基体,形成于该铝或铝合金基体表面的色彩层,所述色彩层包括依次形成于铝或铝合金基体表面的铝层和氧化铝层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于75至100之间,a*坐标值介于-1至1之间,b*坐标值介于-1至1之间。
一种壳体的制造方法,包括以下步骤:
提供铝或铝合金基体;
于该铝或铝合金基体上形成铝层;
于铝层表面磁控溅射形成氧化铝层。
所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于75至100之间,a*坐标值介于-1至1之间,b*坐标值介于-1至1之间。
所述壳体的制造方法,通过磁控溅射法依次于铝或铝合金基体上形成具有装饰性的色彩层。所述色彩层包括依次形成于铝或铝合金基体表面的铝层和氧化铝层,在铝或铝合金基体上形成铝层可呈现出浅白色,之后,再于该铝层上形成一氧化铝层,该氧化铝层可在较宽的波长范围内呈现一种半透明效果,而且该氧化铝层还具有高耐磨性,可避免所述色彩层发生脱落等失效现象,从而使该壳体经长时间使用后仍具有较好的装饰性外观。
附图说明
图1为本发明较佳实施例的壳体的剖视图。
图2是图1壳体的制作过程中所用镀膜机结构示意图。
主要元件符号说明
壳体 10
铝或铝合金基体 11
色彩层 13
铝层 131
氧化铝层 133
镀膜机 100
镀膜室 20
真空泵 30
轨迹 21
靶材 22
气源通道 24
具体实施方式
请参阅图1,本发明一较佳实施例的壳体10包括铝或铝合金基体11、及形成于该铝或铝合金基体11上的色彩层13。该壳体10可以为3C电子产品的壳体,也可为工业、建筑用件及汽车等交通工具的零部件等。
所述色彩层13包括铝层131和氧化铝层133,所述铝层131直接形成于铝或铝合金基体11的表面,所述氧化铝层133形成于铝层131的表面。所述铝层131的厚度为1.0~3.0μm;所述氧化铝层133的厚度为0.5~1.0μm。
所述色彩层13通过磁控溅射法沉积形成。
所述色彩层13呈现白色,其色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于75至100之间,a*坐标值介于-1至1之间,b*坐标值介于-1至1之间。
本发明一较佳实施例的制造所述壳体10的方法主要包括如下步骤:
提供铝或铝合金基体11,并对铝或铝合金基体11依次进行研磨及电解抛光。电解抛光后,再依次用去离子水和无水乙醇对该铝或铝合金基体11表面进行擦拭。再将擦拭后的铝或铝合金基体11放入盛装有丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗,以除去铝或铝合金基体11表面的杂质和油污等。清洗完毕后吹干备用。
对经上述处理后的铝或铝合金基体11的表面进行氩气等离子清洗,进一步去除铝或铝合金基体11表面的油污,以改善铝或铝合金基体11表面与后续涂层的结合力。
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