[发明专利]高压原位电阻率测量的电极及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110021087.7 申请日: 2011-01-19
公开(公告)号: CN102183693A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 高春晓;任万彬;彭刚;刘才龙;韩永昊;刘鲍;胡廷静;吴宝嘉;王庆林;邹广田 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G01R27/02 分类号: G01R27/02
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 王恩远
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高压 原位 电阻率 测量 电极 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种高压原位电阻率测量的电极,沉积在一颗金刚石压砧(1)上,两条电极(3)分别从砧面延伸至侧面;在金刚石压砧(1)的砧面和侧面沉积有氧化铝层作绝缘保护层(4),部分氧化铝层被刻蚀掉使电极(3)在砧面和侧面的端头裸露出来;电极的金属引线(5)粘在金刚石压砧(1)侧面裸露的电极端头上面;其特征在于,两条电极(3)在金刚石压砧(1)砧面的端头分别是圆形和弓形,弓形端头环绕在圆形端头的外面;放置在两颗金刚石压砧(1)之间的金属垫片(6)作为第三电极。

2.按照权利要求1所述的高压原位电阻率测量的电极,其特征是,所述的电极(3)是金属钼材料的;圆形电极的圆半径与砧面半径比值为1~1.1∶4,弓形电极的内径与砧面半径比值为1∶2,外径与砧面半径比值为4∶5。

3.按照权利要求1或2所述的高压原位电阻率测量的电极,其特征是,所述的氧化铝绝缘保护层(4),厚度为2~4μm。

4.一种权利要求1的高压原位电阻率测量的电极及其制作方法,包括沉积金属钼、制作电极、沉积氧化铝绝缘保护层和电极引线制作的步骤;

所述的沉积金属钼,是将清洗干净的金刚石压砧(1)烘干后,放入到真空腔内,利用磁控溅射方法将金属钼沉积在金刚石压砧(1)表面;溅射过程中,金属钼作为靶材,氩气作为工作气体,真空腔压强保持在0.8~1.2Pa,衬底温度在200~300℃;

所述的制作电极,是使用光刻技术将金刚石压砧(1)表面金属钼薄膜刻成电极(3)形状,然后利用钼腐蚀液进行腐蚀,在金刚石压砧(1)上呈现出电极(3),其中在砧面上一条电极的端头为圆形,另一条电极的端头为弓形;

所述的沉积氧化铝绝缘保护层,是在电极(3)刻好之后,再次利用磁控溅射的方法在金刚石压砧(1)表面沉积一层氧化铝膜;溅射过程中,采用金属铝作为靶材,流量比为2.4∶30的氧气和氩气作为工作气体,腔内压强保持为0.8~1.2Pa;溅射完氧化铝膜后,再次利用光刻技术和化学腐蚀的方法,将金刚石压砧(1)砧面的氧化铝膜刻出圆形的小窗,使两电极(3)的圆形端头和弓形端头全部裸露出来,同时使金刚石压砧(1)侧面的氧化铝膜刻出小窗,使两条电极(3)的另一端头裸露出来;

所述的电极引线制作,是用导电银浆将铜导线粘在金刚石压砧(1)侧面裸露的电极上,导电银浆在130~170℃的条件下固化1.5~2.5小时;在预压好的T301钢片中央钻孔作为垫片(6),将铜导线用银浆粘在垫片(6)上作为第三个电极。

5.按照权利要求4所述的高压原位电阻率测量的电极及其制作方法,其特征是,所述的垫片(6),中央孔的半径与金刚石压砧(1)砧面的氧化铝膜刻出的圆形小窗半径之比为1~1.2∶1。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉林大学,未经吉林大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110021087.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top