[发明专利]激光加工装置

说明书

技术领域

本发明涉及激光加工装置，特别是涉及进行激光CVD(Chemical VaporDeposition：化学气相沉积)加工的激光加工装置。

背景技术

以往，使用激光CVD(Chemical Vapor Deposition)法对用于LCD(LiquidCrystal Display：液晶显示器)面板和有机EL(Electro-Luminescence：电致发光)面板等显示器面板的基板的配线的缺陷进行修正的激光加工装置正在普及(例如，参照专利文献1)。

在使用激光CVD法的激光加工装置中，通过向对基板上的配线进行修正的部分附近供给原料气体并且对其基板上的修正部分照射激光，将利用激光的能力而活性化的原料气体作为膜而堆积在修正部分，由此，对基板上的配线进行修正。但是，在将原料气体向基板表面供给时，在未照射激光的部分，由于原料气体与基板的温度差而使原料气体再结晶化，由再结晶化而生成的异物成为配线的缺陷部分，使基板的品质下降。

因此，为了防止原料气体中包含的原料物质在基板上再结晶，在规定的温度(例如40℃左右)以上将基板温热的状态下进行激光CVD加工(以下也简称为CVD加工)。例如，在现有的激光加工装置中，如图1所示，在载置基板21的玻璃载物台11的背面粘附透明膜加热器12，使基板21的加工面成为规定的温度以上而利用透明膜加热器12将玻璃载物台11整体加热。并且，在从下方将基板21整体温热的状态下，从上方向基板21照射激光脉冲并进行CVD加工。

专利文献1：日本特开2008-279471号公报

但是，透明膜加热器12容易发生断线，需要在每次发生断线时进行修理或交换，不仅增加费用、花费工夫，而且直到修理或交换完成为止才停止操作。另一方面，若为了不易发生断线而降低透明薄膜加热器12的温度的话，原料气体中包含的原料物质容易产生再结晶。

另外，若通过透明膜加热器12将玻璃载物台11整体加热，则由于连不需要的部分也被加热到，故而会对玻璃载物台11周边的零件和设备带来由热产生的不良影响。

另外，伴随着显示器面板的大型化，玻璃载物台11以及透明膜加热器12也具有大型化的倾向，导致成本增加，并且难以确保保管操作和保管场所。

另外，具有为了将基板21从玻璃载物台11抬起而设置的升降器用的孔(未图示)等、不能将透明膜加热器12粘贴在玻璃载物台11上的部分，会在该部分产生加热不足。

发明内容

本发明是鉴于上述状况而作出的，提供能够更加可靠并有效地将进行CVD加工的加工部分附近加热的激光加工装置。

本发明第一方面的激光加工装置包括：送风装置，其吹送用于将加工部分附近加热的热风；供给装置，其通过对原料气体进行给气排气而将加工部分附近保持在原料气体环境中；照射装置，其对加工部分照射激光；控制装置，其对送风装置、供给装置以及照射装置进行控制。

在本发明第一方面的激光加工装置中，利用热风将加工部分附近温热，并且将加工部分附近保持在原料气体环境中，对加工部分照射激光并且在加工部分形成薄膜。

因此，能够更加可靠并且有效地将进行CVD加工的加工部分附近加热。

该激光加工装置例如由激光修复装置构成。该送风装置例如由吹出150℃～300℃热风的空气加热器而构成。该供给装置例如由供给羰基铬气体(クロムカルボニルガス)构成的原料气体的气窗等构成。该照射装置例如由射出激光脉冲的激光单元构成。该控制装置例如由CPU等构成的控制装置构成。

该控制装置可以如下地进行控制，即，在利用送风装置将加工部分附近加热规定时间之后，通过供给装置生成原料气体环境，通过照射装置对加工部分照射激光。

由此，能够将加工部分附近的气体环境保持大致相同，可防止加工不均的产生。

来自送风装置的热风和来自供给装置的原料气体能够被从不同位置向加工部分附近供给。

由此，能够将热风以及原料气体可靠地向加工部分附近供给。

本发明第二方面的激光加工装置包括：送风装置；供给装置，其设定成比原料气体中含有的原料物质开始再结晶的温度还高的温度，并且将来自送风装置的风向加工部分附近吹送，通过对原料气体进行给气排气而将加工部分附近保持在原料气体环境中；照射装置，其对加工部分照射激光；控制装置，其对送风装置、供给装置以及照射装置进行控制。

在本发明第二方面的激光加工装置中，来自送风装置的风被加热并向加工部分附近吹送，将加工部分附近温热，并且将加工部分附近保持在原料气体环境中，对加工部分照射激光，在加工部分形成薄膜。