[发明专利]壳体及其制作方法

权利要求书

1.一种壳体，包括一色彩层，其特征在于：该色彩层由氮氧铝化合物组成，该色彩层中铝元素的质量百分含量为45％～50％，氧元素质量百分含量为40％～45％，氮元素质量百分含量为10％～15％，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于28至35之间，a*坐标介于4至6之间，b*坐标介于9至11之间。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该壳体包括基体，所述色彩层直接形成于该基体表面。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该壳体包括基体、打底层及过渡层，该打底层为铝金属层，该过渡层由氮氧铝化合物组成，该打底层直接形成于基体表面，该过渡层形成于该打底层上，该色彩层形成于该过渡层上。

4.如权利要求3所述的壳体，其特征在于：该过渡层中铝元素质量百分含量为60％～65％，氧元素质量百分含量为30％～35％，氮元素质量百分含量为5％～10％。

5.如权利要求2或3所述的壳体，其特征在于：所述基体的材质为不锈钢、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。

6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该色彩层通过磁控溅射方法形成，其厚度为0.4～1.2μm。

7.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供基体；

以铝为靶材，于基体上溅射由铝金属组成的打底层；

以铝为靶材，以氧气和氮气为反应气体，于打底层上溅射由氮氧铝化合物组成的过渡层；

以铝为靶材，以氧气和氮气为反应气体，于打底层上溅射由氮氧铝化合物组成的色彩层，该色彩层中铝元素的质量百分含量为45％～50％，氧元素质量百分含量为40％～45％，氮元素质量百分含量为10％～15％，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于28至35之间，a*坐标介于4至6之间，b*坐标介于9至11之间。

8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅射该色彩层是在如下条件进行：氮气流量为18～23sccm，氧气流量为18～23sccm。

9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅射该色彩层还在如下条件进行：真空度为7.0×10^-3～9.0×10^-3Pa，铝靶功率为8～10kW，以氩气为溅射气体，氩气的流量为150～200sccm，施加于基体的偏压为-150～-250V，占空比为40～60％，溅射时间为20～60min。

10.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述过渡层中铝元素质量百分含量为60％～65％，氧元素质量百分含量为30％～35％，氮元素质量百分含量为5％～10％。

11.如权利要求10所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅射该过渡层是在如下条件进行：氮气流量为5～15sccm，氧气流量为5～15sccm，真空度为7.0×10^-3～9.0×10^-3Pa，铝靶功率为8～10kW，以氩气为溅射气体，氩气的流量为150～200sccm，施加于基体的偏压为-150～-250V，占空比为40～60％，溅射时间为10～30min。