[发明专利]壳体及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有黄褐色外观的壳体及其制作方法。

背景技术

为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰性涂层。相比这些传统工艺，PVD镀膜技术更加绿色环保，且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰性色彩层。

然而现有技术中，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限，目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、白色等色系，能够稳定生产的颜色更是少之又少。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种通过PVD镀膜形成黄褐色外观的壳体。

另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。

一种壳体，包括一色彩层，该色彩层由氮氧铝化合物组成，该色彩层中铝元素的质量百分含量为45％～50％，氧元素质量百分含量为40％～45％，氮元素质量百分含量为10％～15％，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于28至35之间，a*坐标介于4至6之间，b*坐标介于9至11之间。

一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供基体；

以铝为靶材，于基体上溅射由铝金属组成的打底层；

以铝为靶材，以氧气和氮气为反应气体，于打底层上溅射由氮氧铝化合物组成的过渡层；

以铝为靶材，以氧气和氮气为反应气体，于打底层上溅射由氮氧铝化合物组成的色彩层，该色彩层中铝元素的质量百分含量为45％～50％，氧元素质量百分含量为40％～45％，氮元素质量百分含量为10％～15％，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于28至35之间，a*坐标介于4至6之间，b*坐标介于9至11之间。

相较于现有技术，所述壳体的制备方法在形成所述色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和溅射时间的控制，从而达到使色彩层呈现黄褐色的目的，以该方法所制得的壳体呈现出真空镀膜难以获得的黄褐色外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图。

图2是图1所示壳体的制作过程中所用磁控溅射设备的结构示意图。

主要元件符号说明

壳体            10

基体            11

打底层          12

过渡层          13

色彩层          14

磁控溅射设备    1

真空室          2

真空泵          3

转架            4

铝靶            5

气源通道        7

具体实施方式

请参阅图1，本发明较佳实施例的壳体10包括基体11、形成于基体11上打底层12、形成于打底层12上的过渡层13及形成于过渡层13上的色彩层14。该色彩层14肉眼直观呈黄褐色。

基体11的材质可为不锈钢、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。

该打底层12为铝金属层，其厚度大约为0.1～0.2微米，打底层11用于提高后续涂层的结合力。

该过渡层13由氮氧铝化合物(AlON)组成。过渡层13中铝元素质量百分含量为60％～65％，氧元素质量百分含量为30％～35％，氮元素质量百分含量为5％～10％。过渡层13的厚度大约为0.2～0.6微米。该过渡层13用于更好的提高色彩层14的结合力。

所述色彩层14由氮氧铝化合物(AlON)组成。不同于过渡层13的是，色彩层14中铝元素的质量百分含量为45％～50％，氧元素质量百分含量为40％～45％，氮元素质量百分含量为10％～15％。该色彩层14肉眼直观呈现黄褐色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于28至35之间，a*坐标介于4至6之间，b*坐标介于9至11之间。色彩层14的厚度可为0.4～1.2μm。

所述打底层12、过渡层13及色彩层14可分别通过磁控溅射方法形成。

上述壳体10的制作方法，包括以下步骤：

提供一基体11。基体11的材质可为不锈钢、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。

将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。