[发明专利]真空台遮罩、真空固定装置及工件真空固定到其上的方法

权利要求书

1.一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统，其特征在于，所述系统包括：

真空固定台，界定遮罩支撑平面；以及

有孔的真空台遮罩，其可选择性地定位在所述遮罩支撑平面上，所述真空固定台及所述真空台遮罩被构造成通过在所述遮罩支撑平面中对所述真空台遮罩与所述真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。

2.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于：

所述真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列；并且

所述真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。

3.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于：

所述真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，所述遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且

所述真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，所述遮罩的所述孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。

4.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，每一个孔的横截面尺寸至少略大于每一真空孔口的横截面尺寸。

5.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。

6.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩包括四个孔阵列。

7.如权利要求6所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在四个可选择的位置处。

8.如权利要求7所述的真空固定系统，其特征在于，所述四个可选择的位置是由所述真空固定台的隅角界定。

9.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩位于所述真空固定台的上方。

10.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩位于所述真空固定台的增压室内。

11.如权利要求2或权利要求3所述的真空固定系统，其特征在于，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。

12.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于：

所述真空固定台在其上面排列有支撑表面阵列；并且

所述真空台遮罩在其上面形成有孔阵列。

13.如权利要求1所述的真空固定系统，其特征在于：

所述真空台遮罩具有孔阵列，所述遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且

所述真空固定台在其上面形成有至少两个支撑表面阵列，所述至少两个阵列中的不同阵列的支撑表面具有不同的横截面构形，所述至少两个阵列中的每一阵列的支撑表面具有相同的横截面构形，所述遮罩的所述孔被构造成不覆在所述至少两个支撑表面阵列中的至少一者的支撑表面上。

14.如权利要求1、12或13中的任一项所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。

15.如权利要求1、12或13中的任一项所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩包括四个孔阵列。

16.如权利要求15所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩可相对于所述真空固定台定位在四个可选择的位置处。

17.如权利要求16所述的真空固定系统，其特征在于，所述四个可选择的位置是由所述真空固定台的隅角界定。

18.如权利要求12或权利要求13所述的真空固定系统，其特征在于，所述真空台遮罩位于所述支撑表面的上方。

19.一种用于真空固定台以及各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩，所述真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列，所述遮罩包括基板，在所述基板上形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与所述真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐。