[发明专利]真空台遮罩、真空固定装置及工件真空固定到其上的方法

说明书

相关申请案交叉参考

本申请案主张2010年1月17日提出申请且名称为“真空固定装置(VACUUMHOLD-DOWN APPARATUS)”的以色列专利申请案第203353号的优先权，该以色列专利申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明大体上涉及真空固定装置(vacuum hold-down apparatus)，更具体而言，涉及采用真空固定装置的检验系统。

背景技术

据信，以下美国专利代表了所属领域的现状：5,671910及5,709,023、6,422,548及7,469,886。

发明内容

本发明的目的是提供一种真空固定装置。

根据本发明一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空固定台以及有孔的真空台遮罩。真空固定台界定遮罩支撑平面。有孔的真空台遮罩可选择性地定位在遮罩支撑平面上，真空固定台及真空台遮罩被构造成通过在遮罩支撑平面中对真空台遮罩与真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。

根据本发明的较佳实施例，真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口(vacuum orifice)阵列；并且真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。

根据本发明的较佳实施例，真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，该遮罩的孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。

根据本发明另一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空固定台以及真空台遮罩。真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。

根据本发明的又一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空台遮罩以及真空固定台。真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，该遮罩的孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。

较佳地，每一个孔的横截面尺寸至少略大于每一真空孔口的横截面尺寸。

较佳地，真空台遮罩位于真空固定台的上方。作为另外一种选择，真空台遮罩位于真空固定台的增压室(plenum)内。

根据本发明的较佳实施例，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。

根据本发明的较佳实施例，真空固定台在其上面排列有支撑表面阵列，并且真空台遮罩在其上面形成有孔阵列。

根据本发明的较佳实施例，真空台遮罩具有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面，并且真空固定台在其上面形成有至少两个支撑表面阵列，所述至少两个阵列中的不同阵列的支撑表面具有不同的横截面构形，所述至少两个阵列中的每一阵列的支撑表面具有相同的横截面构形，该遮罩的孔被构造成不覆在所述至少两个支撑表面阵列中的至少一者的支撑表面上。

较佳地，真空台遮罩位于支撑表面的上方。

较佳地，真空台遮罩可相对于真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。另外或作为另外一种选择，真空台遮罩包括四个孔阵列。

根据本发明的较佳实施例，真空台遮罩可相对于真空固定台定位在四个可选择的位置处。另外，所述四个可选择的位置是由真空固定台的隅角界定。

根据本发明的再一方面提供一种用于真空固定台以及各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩。真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。该遮罩包括基板，在该基板上形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐。

根据本发明的较佳实施例，所述至少两个孔阵列的每一个孔的横截面尺寸至少略大于真空孔口阵列的每一真空孔口的横截面尺寸。

另外或作为另外一种选择，真空台遮罩包括四个孔阵列。另外或作为另外一种选择，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。