[发明专利]吡咯衍生物的制备方法及应用

权利要求书

1.结构如式Ⅰ所示的化合物、或其药学上可接受的等价物，

其中：

X选自C或N；

Y为O、NR⁷、NR⁷CH₂、S、SO、SO₂或CR⁸R⁹；

m为0-2；n为0-4；p为0-5；

R¹、R²独立选自氢、卤素、卤代烷基、硝基、氰基、-OR¹⁰、-NR¹¹R¹²、-CO₂R¹³、-C(O)NR¹⁴R¹⁵、-NR¹⁶C(O)R¹⁷、-NR¹⁸CO₂R¹⁹、-CO(CH₂)_r R²⁰、-CONH(CH₂)_r R²¹、烷基、环烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、杂环基、芳烷基或杂环烷基；

每个R³、R⁵、R⁶独立选自卤素、氰基、-NO₂、-OR²²、-NR²³R²⁴、烷基、环烷基、芳基、杂芳基、杂环基、芳烷基或杂环烷基；

R⁴、R⁷独立选自氢、烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基、杂芳基或杂环基；

R⁸和R⁹独立选自氢、卤素、烷基、环烷基、芳基、杂芳基、杂环基或杂环烷基；

R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷、R¹⁸、R¹⁹、R²⁰、R²¹、R²²、R²³和R²⁴独立选自氢、烷基、环烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、杂环基、芳烷基或杂环烷基；

r为0-2。

2.权利要求1中所述的化合物、或其药学上可接受的等价物，其特征在于

其中，

X为C；

Y为O； 

R¹选自氢、卤素、氰基、-NO₂、-OR²²、-NR²³R²⁴、烷基、三卤烷基或环烷基；

R²选自氨基、酰胺基或氰基； 

每个R³、R⁵、R⁶独立选自卤素、氰基、-NO₂、-OR²²、-NR²³R²⁴、烷基、环烷基、芳基、杂芳基、杂环基、芳烷基或杂环烷基；

R⁴选自氢、烷基或环烷基；

R²²、R²³和R²⁴独立选自氢、烷基、芳基或杂芳基；

m为0-2；n为0-2；p为0-2。

3.权利要求1中所述的化合物、或其药学上可接受的等价物，其特征在于

其中，X为C；Y为O； R¹为卤素；R²为氨基； R³为卤素；R⁴为C_1-4烷基；R⁵为C_1-4烷基；R⁶为卤素；m为1；n为0-2；p为1。