[发明专利]光学元件射出成型方法无效
| 申请号： | 201110028236.2 | 申请日： | 2011-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN102615779A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 许嘉麟 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C45/26 | 分类号： | B29C45/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 射出 成型 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学元件射出成型方法，其特征在于包括如下步骤：
提供一用于光学元件射出成型的模具，该模具包括一具有成型腔的模仁；
采用原子层沉积法在该模仁的成型腔表面沉积一层润滑膜层；
使用该模具射出成型该光学元件。
2.如权利要求1所述的光学元件射出成型方法，其特征在于：在对该模仁的成型腔表面沉积润滑膜层之前还进一步包括一对该模仁的成型腔表面进行表面活性处理的步骤。
3.如权利要求2所述的光学元件射出成型方法，其特征在于：该润滑膜层为TiN层。
4.如权利要求3所述的光学元件射出成型方法，其特征在于：在沉积该润滑膜层过程中采用TiCl4、Ti(N(CH3)2)4、Ti(N(C2H5)2)4以及Ti(N(CH3)(C2H5))4其中之一作为第一气体反应物，采用N2或NH3作为第二气体反应物。
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