[发明专利]光学元件射出成型方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学元件射出成型方法，尤其涉及一种尺寸小且结构复杂的光学元件射出成型方法。

背景技术

一般在注射成型小尺寸、结构复杂的产品时，由于物料的流动性能不佳往往会面临注射材料填充不充分的情况。尤其当注射成型小尺寸的光学元件时，由于需要考虑材料的光学性能等因素，因此在选择成型材料时就无法很好的兼顾成型材料的流动性，这样就会增加光学元件射出成型的难度。

例如，在结构精密的光纤耦合连接器的射出成型工艺中，由于ULTEMPEI(Polyetherimide)树脂在光源穿透率、机械强度以及热稳定性方面具有很好的优势，因而成为光纤耦合连接器射出件的首选材料。但在实际射出成型过程中，当射出机螺杆料温设定在其玻璃转化温度(约260℃)左右时，PEI树脂会变得相当具有粘滞力，因此在对结构复杂、尺寸较小的光纤耦合连接器模具进行填充时，需要特别增加高保压压力来保证成型材料的填充效果。然而在批量生产过程中，持续使用高保压参数会加重射出成型机的负荷，从而降低射出成型机的使用寿命，并且很难保证射出件尺寸规格上的一致性。因此，在注射成型小尺寸光学元件的过程中，当注射成型材料的流动性不高时，如何保证光学元件射出件的质量就成为一个重要课题。

发明内容

有鉴于此，提供一种能够改善物料流动性能的光学元件射出成型方法实为必要。

一种光学元件射出成型方法，其包括如下步骤：提供一用于光学元件射出成型的模具，该模具包括一具有成型腔的模仁；采用原子层沉积法在该模仁的成型腔表面沉积一层润滑膜层；使用该模具射出成型该光学元件。

与现有技术相比，本发明所提供的该光学元件射出成型方法，通过在射出成型之前采用原子层沉积法在成型腔表面沉积一层润滑膜层，从而大大增加了成型材料在对成型腔填充时的流动性，提高了光学元件射出成型的良率，降低了对射出成型机的参数设定要求，增加了产品的稳定性，同时，由于原子层沉积法所形成的膜层厚度能够达到原子级别，并且能够精准控制膜层厚度，因此不需要担心在成型腔内增加膜层而影响了光学元件的尺寸，并且，由于一般光学元件射出成型之模仁尺寸小且结构复杂，采用原子层沉积法对模仁成型腔进行镀膜，能够不受模仁结构复杂而产生的立体障碍影响，能够对成型腔进行全面性的镀膜，从而保证了射出成型产品的质量，更进一步的，由于原子层沉积法的独特优势，能够允许在同一个真空腔内放置复数模仁以同时对其进行镀膜作业，提高了射出成型制程的效率。

附图说明

图1是本发明实施方式所提供的光学元件射出成型方法的流程图。

图2是本发明实施方式所提供的光学元件射出成型方法中对模仁的成型腔进行沉积润滑膜层的过程示意图。

主要元件符号说明

成型腔      110

模仁        120

真空腔体    130

进气口      131

排气口      132

抽真空口    133

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。

请参见图1，本发明实施方式所提供的光学元件射出成型方法，其包括如下步骤：

提供一模具，该模具包括一具有成型腔的模仁；

将该模仁由该模具中拆卸下来；

采用原子层沉积法在该模仁的成型腔表面沉积一层润滑膜层；

将沉积有该润滑膜层的模仁组入该模具，并使用该模具进行注射成型。

请结合图2，模具(图未示)包括具有成型腔110的模仁120，将该模仁120由该模具中拆解下来。

然后，采用原子层沉积法(atomic layer deposition)在该模仁120的成型腔110的表面沉积一层润滑膜层，具体步骤如下，将该模仁120置入一具有加热功能之真空腔体130，该真空腔体130具有一进气口131、一排气口132以及一抽真空口133。通过该抽真空口133对该真空腔体130抽气至一定真空度，接着启动该真空腔体130之加热装置使该真空腔体130内的温度均匀升至待通入气体的热裂解温度，然后持续通入第一气体反应物，该第一气体反应物在高温下发生裂解并沉积到该模仁120之成型腔110的表面直至该成型腔110的表面达到饱和，接着再进行抽气以排出该真空腔体130内部过剩的第一气体反应物，最后通入第二气体反应物使之与沉积在该成型腔110表面的第一气体反应物进行反应以在该成型腔110的表面形成均匀的润滑膜层，可以通过重复上述步骤来控制形成在该成型腔110表面的润滑膜层的厚度。