[发明专利]光电元件及其制造方法有效
申请号: | 201110034959.3 | 申请日: | 2011-02-09 |
公开(公告)号: | CN102148301A | 公开(公告)日: | 2011-08-10 |
发明(设计)人: | 陈世益;许嘉良;徐子杰;吴俊毅;黄建富 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/22;H01L33/02;H01L33/38;H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 元件 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光电元件及其制造方法。
背景技术
近年来,节能减碳的议题日益受到重视,发光二极管在背光及照明的应用领域更显重要,各种增加发光二极管光摘出效率的方法一一被提出。欲增进光摘出效率可以通过几个方式,其包括改善外延生长的品质,通过增加电子和空穴结合的机率,提升内部量子效率(IQE)。另一方面,发光二极管产生的光线若无法有效被取出,部分光线因全反射因素而局限在发光二极管内部来回反射或折射,最终被电极或发光层吸收,使亮度无法提升,因此使用表面粗化或改变结构的几何形状等,提升外部量子效率(EQE)。通过提升光摘出效率(LEE),使发光二极管的亮度增高。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种光电半导体元件,其具有促进光摘出效率的结构。
本发明一实施例的一种发光元件包括:基板,第一窗口层,形成于所述的基板,具有第一片电阻值、第一厚度及第一杂质浓度;第二窗口层,具有第二片电阻值、第二厚度及第二杂质浓度;半导体系统,形成于所述的第一窗口层及所述的第二窗口层之间;其中所述的第二窗口层和所述的半导体系统为不同的半导体材料;所述的第二片电阻值低于所述的第一片电阻值。
本发明一实施例的一种光电半导体元件包括:基板;金属层,具有金属元素,形成于所述的基板上;第一窗口层,包括所述的金属元素;透明导电层,形成于所述的金属层和所述的第一窗口层之间,其中于所述第一窗口层的所述金属元素的浓度小于1*1019cm-3。
本发明一实施例的一种光电半导体元件包括:基板;n型窗口层,形成于所述的基板上;半导体系统,形成于所述的n型窗口层上;p型窗口层,形成于所述半导体系统上;其中,所述光电半导体元件在驱动电流密度介于0.1~0.32mA/mil2下,具70流明/瓦的发光效率,发出的光源介于琥珀色光和红光之间。
本发明一实施例的一种制造光电半导体元件的方法,包括以下步骤:提供基板;形成半导体系统于所述的基板上;形成窗口层在所述的半导体系统上;其中所述的窗口层和所述的半导体层由不同的半导体材料所构成;移除所述的窗口层,由此使所述的窗口层和所述的半导体层具有一个宽度差,所述的宽度差大于1微米。
附图说明
图1A~图1H分别为本发明光电半导体元件依本发明所披露的工艺方式,依每一个工艺步骤所对应的结构侧视剖面示意图;
图2为本发明光电半导体元件的实施例侧视剖面示意图;
图3为本发明光电半导体元件的实施例的SEM图;
图4本发明光电半导体元件的第一欧姆接触层的俯视图。
附图标记说明
10第一堆叠结构 101基板
102支撑基板 103支撑基板
111第一窗口层 112第二窗口层
120光电系统 121第一层
122转换单元 123第二层
130第一欧姆接触层 131电极
132指状电极 140第二欧姆接触层
141透明导电层 150反射层
160金属层 171第一衬垫
172第二衬垫 180钝化层
S1第一蚀刻平台 S2第二蚀刻平台
L1宽度差
具体实施方式
图1A至图1H分别为依本发明实施例的工艺方法于各步骤的对应结构示意图。请先参阅图1A,利用本发明所披露的光电半导体元件工艺方式,先提供基板101,基板101被当作生长基板,用以生长或承载光电系统120于其上。构成所述生长基板101的材料包括但不限于锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)、蓝宝石(sapphire)、碳化硅(SiC)、硅(Si)、氧化二铝锂(LiAlO2)、氧化锌(ZnO)、氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)的一种或其组合。构成基板101的材料包括锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)、蓝宝石(sapphire)、碳化硅(SiC)、硅(Si)、氧化二铝锂(LiAlO2)、氧化锌(ZnO)、氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)、玻璃、钻石(diamond)、CVD钻石、类钻碳(DLC)的一种或及其组合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110034959.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种改性双马来酰亚胺树脂及其制备方法
- 下一篇:GaN衬底和半导体器件