[发明专利]光致抗蚀剂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物。

背景技术

光致抗蚀剂组合物用于采用光刻工艺的半导体微型制造。

US 2008/0166660A1公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂、酸生成剂、猝灭剂和溶剂，所述树脂具有：衍生自甲基丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯的结构单元，衍生自甲基丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯的结构单元，衍生自甲基丙烯酸-2-(5-氧代-4-氧杂三环[4.2.1.0^3，7]壬-2-基氧基)-2-氧代乙酯的结构单元和衍生自α-甲基丙烯酰氧基-γ-丁内酯的结构单元，所述酸生成剂包含4-氧代金刚烷-1-基氧基羰基(二氟)甲磺酸三苯锍，所述猝灭剂包含2，6-二异丙基苯胺。

US 5,998,099A公开了作为光致抗蚀剂组合物用添加剂的环己烷氨基磺酸双(叔丁基苯基)碘盐和包含环己烷氨基磺酸双(叔丁基苯基)碘盐的光致抗蚀剂组合物。

发明内容

本发明在于提供一种光致抗蚀剂组合物。

本发明涉及下列各项：

<1>一种光致抗蚀剂组合物，所述的光致抗蚀剂组合物包含：

具有由式(IA)表示的阴离子的锍盐：

其中R¹和R²独立地表示氢原子、C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，或R¹和R²相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环，

丙烯酸类树脂，其具有酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，和

酸生成剂；

<2>根据<1>所述的光致抗蚀剂组合物，其中具有由式(IA)表示的阴离子的锍盐具有由式(IB)表示的阳离子：

其中R³，R⁴和R⁵在每次出现时独立地是羟基、卤素原子、C1-C12烷氧基、C1-C30脂族烃基、C3-C36饱和环烃基或C6-C18芳族烃基，并且所述脂族烃基中的一个或多个氢原子可以被羟基、C1-C12烷氧基或C6-C18芳族烃基代替，所述饱和环烃基的一个或多个氢原子可以被卤素原子、C2-C4酰基或缩水甘油氧基代替，所述芳族烃基的一个或多个氢原子可以被卤素原子、羟基、C1-C36脂族烃基、C3-C36饱和环烃基或C1-C12烷氧基代替，并且mx，my和mz独立地表示0至5的整数；

<3>根据<1>或<2>所述的光致抗蚀剂组合物，其中R¹和R²独立地表示C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，或R¹和R²相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环；

<4>根据<1>或<2>所述的光致抗蚀剂组合物，其中R¹表示C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

R²表示C7-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，或

R¹和R²相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环；