[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
申请号: | 201110038498.7 | 申请日: | 2011-02-15 |
公开(公告)号: | CN102634754A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;黄嘉 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种镀膜件,包括基材,其特征在于:该镀膜件还包括第一透明导电层、金属层及第二透明导电层,该第一透明导电层形成于基材上,该金属层形成于第一透明导电层上,该第二透明导电层形成于金属层上,该第一透明导电层及第二透明导电层均由锡、锑及锌的氧化物组成,该第一透明导电层及第二透明导电层中氧化锌、氧化锑的摩尔百分含量均为:氧化锌30~50%,氧化锑1~5%,余量为氧化锡。
2.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该镀膜件的电阻率为2~5×10-3欧姆·米,可见光的透过率为85~87.5%。
3.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该第一透明导电层的厚度为270~400nm,该金属层的厚度为10~25nm,该第二透明导电层的厚度为270~400nm。
4.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该金属层为银、钯或者铂溅镀形成,该金属层的粒子平均粒径为10~12nm。
5.一种镀膜件的制备方法,包括如下步骤:
提供基材、真空镀膜机、合金靶材及金属靶材,该合金靶材由锡、锌及锑组成,其中各原子的百分含量为:锡45~65%,锑1~5%,锌30~45%,
将基材、合金靶材及金属靶材安装于真空镀膜机内;
开启所述合金靶材以在基材上形成第一透明导电层;
开启所述金属靶材以在所述第一透明导电层上形成金属层;
开启所述合金靶材以在所述金属层上形成第二透明导电层。
6.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:该制备方法还包括在形成第一透明导电层之前通入工作气体氩气对基材进行等离子体清洗的步骤。
7.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:所述基材为玻璃或陶瓷。
8.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:该金属靶材为银靶材、钯靶材或者铂靶材。
9.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法,其特征在于,该第一透明导电层及第二导电层均在以下条件下溅射形成:该合金靶材的功率为5~7kw,反应气体氧气的流量为50~88sccm,工作气体氩气的流量为300sccm,基材偏压为-100~-150V,镀膜温度为120℃~200℃,镀膜时间为30~50min。
10.如权利要求5所述的镀膜件的制备方法,其特征在于,溅射该金属层的工艺参数为:该金属靶材的功率为2~3kw,工作气体氩气的流量为300sccm,基材偏压为-100~-150V,镀膜温度为100℃~120℃,镀膜时间为30~60min。
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