[发明专利]镀膜件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜件及该镀膜件的制备方法。

背景技术

透明导电氧化物(transplant conductive oxide，TCO)属于半导体光电子材料。TCO薄膜具有良好的可见光透过性、高的红外光反射性及低的电阻率等特性，因而在太阳能电池、液晶显示器、透明电机、透明电磁屏蔽、抗静电装置、触敏覆盖层、电荷耦合成像器件及红外热反射镜等领域有着广泛的应用。

掺锡氧化铟(Indium tin oxide，ITO)薄膜为当前使用较为广泛的透明导电层。然而，ITO薄膜作为光电器件的透明电极使用时，铟发生扩散，影响器件性能的稳定，尤其会引起薄膜太阳电池性能的衰减。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种减少膜层扩散的镀膜件。

另外，还有必要提供一种上述镀膜件的制备方法。

一种镀膜件，包括基材、第一透明导电层、金属层及第二透明导电层，该第一透明导电层形成于基材上，该金属层形成于第一透明导电层上，该第二透明导电层形成于金属层上，该第一透明导电层及第二透明导电层均由锡、锑及锌的氧化物组成，该第一透明导电层及第二透明导电层中氧化锌、氧化锑的摩尔百分含量均为：氧化锌30～50％，氧化锑1～5％，余量为氧化锡。

一种镀膜件的制备方法，包括如下步骤：

提供基材、真空镀膜机、合金靶材及金属靶材，该合金靶材由锡、锌及锑组成，其中各原子的百分含量为：锡45～65％，锑1～5％，锌30～45％，

将基材、合金靶材及金属靶材安装于真空镀膜机内；

开启所述合金靶材以在基材上形成第一透明导电层；

开启所述金属靶材以在所述第一透明导电层上形成金属层；

开启所述合金靶材以在所述金属层上形成第二透明导电层。

本发明的镀膜件在基材的表面沉积第一透明导电层，该金属层设置于第一透明导电层与第二透明导电层之间，提高了膜层间的结合力，该第一透明导电层及第二透明导电层由锡、锌及锑的氧化物组成，不易发生扩散，稳定性好，并降低了膜层的电阻率。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；

图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件                    10

基材                      11

第一透明导电层            13

金属层15                  15

第二透明导电层            17

真空镀膜机                20

镀膜室                    21

合金靶材                  23

金属靶材                  24

具体实施方式

请参阅图1，本发明镀膜件10包括基材11、依次形成于基材11表面的第一透明导电层13、金属层15及第二透明导电层17。该第一透明导电层13通过镀膜的方式形成于基材11表面，该金属层15通过镀膜的方式覆盖于第一透明导电层13上，该第二透明导电层17通过镀膜方式覆盖于金属层15上。在本发明较佳实施例中，该第一透明导电层13及第二透明导电层17以溅镀合金靶材23的方式形成，该第一透明导电层13的厚度为200～400nm，该第二透明导电层17的厚度为200～400nm。该第一透明导电层13及第二透明导电层17均由锡(tin，元素符号为Sn)、锑(antimony，元素符号为Sb)及锌(zinc，元素符号为Zn)的氧化物组成，该第一透明导电层13及第二透明导电层17中氧化锌、氧化锑的摩尔百分含量分别为：氧化锌30～50％，氧化锑1～5％，余量为氧化锡。该金属层15通过溅镀金属形成，其厚度为10～25nm。该镀膜件10的电阻率为2～5×10^-3欧姆·米，可见光的透过率为85～87.5％。

该基材11可为玻璃或陶瓷，该金属层15由高导电且光谱反射率较高的金属，如银或者铝。

该合金靶材23由锡粉体、锌粉体及锑粉体通过烧结形成。其中，锡、锌及锑的原子百分含量为：锡45～65％，锌30～45％及锑1～5％。

本发明较佳实施方式的镀膜件10的制备方法，其包括以下步骤：

提供一基材11，该基材11可为玻璃或陶瓷。