[发明专利]盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种由式(I)表示的盐：

其中R¹和R²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X¹表示C1-C17二价饱和烃基，在所述C1-C17二价饱和烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且所述C1-C17二价饱和烃基可以具有一个或多个氟原子，R³表示氢原子或甲基，并且Z¹⁺表示有机抗衡阳离子。

2.根据权利要求1所述的盐，其中X¹表示*-CO-O-或*-CH₂-O-CO-，其中*表示与-C(R¹)(R²)-的结合位置。

3.根据权利要求1所述的盐，其中Z¹⁺是三芳基锍阳离子。

4.一种酸生成剂，所述酸生成剂包含根据权利要求1所述的盐。

5.一种聚合物，所述聚合物包含衍生自根据权利要求1所述的盐的结构单元。

6.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含根据权利要求4所述的酸生成剂以及树脂，所述树脂具有酸不稳定基团，不溶或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。

7.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含根据权利要求5所述的聚合物。

8.根据权利要求6或7所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含碱性化合物。

9.一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(1)至(5)：

(1)将根据权利要求6或7所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在基底上的步骤，

(2)通过进行干燥形成光致抗蚀剂膜的步骤，

(3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤，

(4)将已曝光的光致抗蚀剂膜进行烘焙的步骤，和

(5)用碱性显影液将已烘焙的光致抗蚀剂膜显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。