[发明专利]盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及盐和含有该盐的光致抗蚀剂组合物。

背景技术

光致抗蚀剂组合物用于采用光刻法的半导体微型制造。

US 2003/0099900A1公开了一种化学放大型光致抗蚀剂组合物，该组合物包含：树脂，其包含衍生自甲基丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯的结构单元和衍生自对羟基苯乙烯的结构单元；作为酸生成剂的2，4，6-三异丙基苯磺酸三苯基锍和双(环己基磺酰基)重氮甲烷；碱性化合物；和溶剂。

发明内容

本发明提供一种适用于酸生成剂的盐和包含该盐的光致抗蚀剂组合物。

本发明涉及下列内容：

<1>一种由式(I)表示的盐：

其中R¹和R²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X¹表示C1-C17二价饱和烃基，在所述C1-C17二价饱和烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且所述C1-C17二价饱和烃基可以具有一个或多个氟原子，R³表示氢原子或甲基，并且Z¹⁺表示有机抗衡阳离子；

<2>根据<1>所述的盐，其中X¹表示*-CO-O-或*-CH₂-O-CO-，其中*表示与-C(R¹)(R²)-的结合位置；

<3>根据<1>或<2>的盐，其中Z¹⁺是三芳基锍阳离子；

<4>一种酸生成剂，所述酸生成剂包含根据<1>至<3>中任一项所述的盐；

<5>一种聚合物，所述聚合物包含衍生自根据<1>至<3>中任一项所述的盐的结构单元；

<6>一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含根据<4>所述的酸生成剂以及树脂，所述树脂具有酸不稳定基团，不溶或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；

<7>一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含根据<5>所述的聚合物；

<8>根据<6>或<7>所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含碱性化合物；

<9>一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(1)至(5)：

(1)将根据<6>至<8>中任一项所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在基底上的步骤，

(2)通过进行干燥形成光致抗蚀剂膜的步骤，

(3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤，

(4)将已曝光的光致抗蚀剂膜进行烘焙的步骤，和

(5)用碱性显影液将已烘焙的光致抗蚀剂膜显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。

具体实施方式

首先，将说明由式(I)表示的盐。

本发明的盐由式(I)表示：

其中R¹和R²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X¹表示C1-C17二价饱和烃基，在所述C1-C17二价饱和烃基中一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且所述C1-C17二价饱和烃基可以具有一个或多个氟原子，R³表示氢原子或甲基，并且Z¹⁺表示有机抗衡阳离子(以下，简称为盐(I))。

C1-C6全氟烷基的实例包括三氟甲基，五氟乙基，七氟丙基，九氟丁基，十一氟戊基和十三氟己基，并且优选三氟甲基。R¹和R²独立地优选表示氟原子或三氟甲基，并且R¹和R²更优选为氟原子。