[发明专利]磁头检查方法以及磁头制造方法

权利要求书

1.一种磁头检查方法，使用原子力显微镜来对从晶圆切割出的横条状态的磁头的记录部表面的形状进行扫描测定，基于该测定结果，在将磁力显微镜的悬臂单元的磁性探针保持在与所述磁头的记录部表面相距与磁头相对于磁盘的悬浮高度相当的距离的位置的状态下，使所述磁性探针沿着所述磁头的记录头部的表面扫描移动，对表示所述悬臂单元的激振状态的信号进行检测，并基于该信号来对所述磁头的有效轨道宽度进行测定，该磁头检查方法的特征在于：

将比所述磁力显微镜的所述悬臂单元的磁性探针的扫描测定区域的一半更小的区域，设为使用所述原子力显微镜来扫描的所述磁头的记录部表面的扫描测定区域。

2.根据权利要求1所述的磁头检查方法，其特征在于其中：

当所述磁力显微镜的所述悬臂单元的磁性探针的扫描测定区域为矩形状时，将使用所述原子力显微镜来扫描的所述磁头的记录部表面的扫描测定区域，设为沿着所述矩形区域的彼此邻接的两边的区域。

3.一种磁头检查方法，使用原子力显微镜来对从晶圆切割出的横条状态的磁头的记录部表面的形状进行扫描测定，基于该测定结果，在将设置于所述原子力显微镜的悬臂单元处的霍尔元件或磁阻传感器MR元件保持在与所述磁头的记录部表面相距与磁头相对于磁盘的悬浮高度相当的距离的位置的状态下，使所述霍尔元件或MR元件沿着所述磁头的记录头部的表面扫描移动，对来自所述霍尔元件或MR元件的信号进行检测，并基于该信号来对所述磁头的有效轨道宽度进行测定，该磁头检查方法的特征在于：

将比所述霍尔元件或MR元件的扫描测定区域的一半更小的区域，设为使用所述原子力显微镜来扫描的所述磁头的记录部表面的扫描测定区域。

4.根据权利要求3所述的磁头检查方法，其特征在于其中：

当所述霍尔元件或MR元件的扫描测定区域为矩形状时，将使用所述原子力显微镜来扫描的所述磁头的记录部表面的扫描测定区域，设为沿着所述矩形区域的彼此邻接的两边的区域。

5.一种磁头制造方法，其特征在于：

使用根据权利要求1、2、3或4所述的磁头检查方法来制造磁头。