[发明专利]有机发光显示设备及其制造方法

说明书

相关专利申请的交叉引用

本申请要求2010年2月16日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请No.10-2010-0013846的优先权和权益，其全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本发明的实施例涉及有机发光显示设备及其制造方法。

背景技术

一般而言，有机发光显示设备是自发射型显示设备，其包括像素电极、反电极以及在像素电极与反电极之间的有机发光层，使得在适当的阳极电压和适当的阴极电压被施加于这些电极时，从有机发光层发出光。

由于近来有机发光显示设备的尺寸增大，因此有机发光层已通过诸如喷嘴印刷或喷墨印刷之类的印刷工艺形成，与由掩模工艺形成有机发光层相比，这消除了对更经常地使用掩模的需要。

为了通过利用印刷工艺形成有机发光层，可以使用障壁来防止喷射到像素区中的有机发光层溶液渗透到相邻的像素区中。隔离物(spacer)和像素限定层可以用作障壁。

像素限定层至少部分地包围每个像素并将每个像素与其它像素隔开。隔离物从像素限定层突出，并且充当用于防止有机发光层溶液渗透到相邻像素区中的障壁。

发明内容

因为传统的制造方法涉及图案化像素电极上的像素限定层并且图案化像素限定层上的隔离物，因此可能需要执行双掩模工艺以形成像素限定层和隔离物。相应地，正在进行更简单的制造工艺的研究。

相应地，本发明的一方面提供一种有机发光显示设备，其中利用单掩模工艺形成像素限定层和隔离物。本发明的另一方面提供一种制造有机发光显示设备的方法。

根据本发明的一个实施例，提供一种有机发光显示设备，包括：电连接到薄膜晶体管的像素电极；至少部分地包围所述像素电极并限定像素区的像素限定层；与所述像素限定层相邻的隔离物；与所述像素电极对应的第二电极；以及在所述像素电极与所述第二电极之间的有机发光层，其中所述像素限定层在所述像素电极与所述有机发光层之间的锥角在15度到30度的范围内。

所述像素限定层可以具有小于的厚度。所述隔离物可以与所述像素限定层为一体，并从所述像素限定层突出。所述第二电极可以面对所述像素电极。

本发明的另一实施例提供一种制造有机发光显示设备的方法，包括：在像素电极上形成有机绝缘材料层；在所述有机绝缘材料层上放置包括光阻挡部分、部分透射部分和光透射部分的半色调掩模；执行暴露工艺，使得所述像素电极与所述光透射部分对应，至少部分地包围所述像素电极的像素限定层与所述部分透射部分对应，并且与所述像素限定层相邻的隔离物与所述光阻挡部分对应；以及蚀刻所述有机绝缘材料层的一部分，使得所述像素电极上的像素区至少部分地被与所述暴露工艺对应的所述像素限定层和所述隔离物包围。

所述暴露工艺可以包括散焦工艺，其中至少一束光远离所述有机绝缘材料层的暴露表面聚焦。所述散焦工艺可以包括在离所述有机绝缘材料层的暴露表面10μm至15μm处聚焦所述至少一个光束。所述像素限定层在所述像素电极与所述有机发光层之间的锥角可以在15度到30度之间。所述像素限定层可以具有小于的厚度。所述光阻挡部分可以具有0％的透光率，所述部分透射部分可以具有40％到70％的透光率，并且所述光透射部分可以具有100％的透光率。所述有机绝缘材料层的所述部分可以在所述暴露工艺期间被暴露。所述方法还可以包括制备所述半色调掩模。

根据本发明的实施例，可以通过利用半色调掩模的单掩模工艺来形成像素限定层和隔离物，可以简化制造工艺，并且可以通过减小像素限定层的锥角来形成均匀的有机发光层。

附图说明

附图与说明书一起图示说明本发明的示例性实施例，并且与说明一起用于解释本发明实施例的原理。

图1是根据本发明实施例的有机发光显示设备的横截面图；

图2是图示说明图1的部分A的放大视图；以及

图3A和图3B是图示说明本发明的实施例的横截面图，其中制造方法用于形成图1的有机发光显示设备的实施例。

具体实施方式

下文中，将参照附图描述根据本发明的若干示例性实施例。这里，当第一元件被描述为连接到第二元件时，第一元件可以直接连接到第二元件，或者可以经由一个或多个额外元件间接连接到第二元件。进一步，为了清楚起见，省略了对于完整理解本发明并不必要的一些元件。而且，相同的附图标记始终指代相同的元件。

下文中，参照图1至图3B详细描述本发明的示例性实施例。

图1是图示说明根据本发明一个实施例的有机发光显示设备的横截面图。