[发明专利]双台座光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；

测量系统，用于在设备的测量站中测量衬底参数；

投射系统，用于在设备的曝光站中，将该所构图的辐射束投射到衬底上；

定位系统和至少两个台座，用于支撑衬底，其中构建定位系统用于在测量站和曝光站之间移动台座，其中在曝光站进行曝光的过程中，根据那个衬底的至少一个测量参数，定位系统对支撑衬底的台座之一定位；

承载测量架的底座，该测量架支持测量系统和投射系统，其中测量架与底座动态隔离，并且其中测量系统包括在测量站和曝光站中延伸的编码器系统，用于测量台座位置。

2.根据权利要求1的光刻设备，其中编码器系统包括至少一个与测量架或投射系统连接的编码器板，其中该至少一个编码器板被构建并设置用于与设置在台座之一上测量该台座位置的编码器头协同工作。

3.一种光刻设备，包括：

支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；

测量系统，用于在设备的测量站中测量衬底参数；

投射系统，用于在设备的曝光站中，将该所构图的辐射束投射到衬底上；

定位系统，用于定位光刻设备的至少两个衬底台座，其中台座被构建用于支撑衬底；

机架，其配备有平面电动机的第一部分，该平面电动机的第一部分与平面电动机的第二部分分别在各自的台座协同工作，其中定位系统被构建并设置以控制平面电动机，用于在测量站和曝光站之间移动台座，并且根据台座上的衬底的至少一个测量参数，在曝光站中以6个自由度移动各个台座，其中机架被构建并设置以允许当在测量站和曝光站之间移动时，台座彼此通过。

4.一种光刻设备，包括：

支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；

测量系统，用于在设备的测量站中测量衬底参数；

投射系统，用于在设备的曝光站中，将该所构图的辐射束投射到衬底上；

定位系统和至少两个台座，用于支撑衬底，其中构建定位系统用于在测量站和曝光站之间移动台座，其中在曝光站进行曝光期间，根据那个衬底的至少一个测量参数，定位系统对支撑衬底的台座之一定位；

具有两个在水平面中在第一方向延伸的基本平行的导槽的机架，其中每个导槽与一个可以依靠电动机沿导槽移动的元件连接，并且其中每个元件依靠电动机与台座连接，该电动机用于在水平面的与第一方向垂直的第二方向移动台座，其中定位系统被构建并设置用于控制电动机，以便于在平面内移动台座，其中机架被构建并设置以允许当在测量站和曝光站之间移动时，台座彼此通过。