[发明专利]双台座光刻设备和器件制造方法

说明书

本申请是申请号为2006100998600、申请日为2006年5月23日、发明名称为“双台座光刻设备和器件制造方法”的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种多台座光刻设备以及用该多台座光刻设备制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是将预期图案施加到衬底上，通常是施加到衬底上的目标部分上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造。在那种情况，构图器件，其另外称为掩模或标线，可用于产生电路图案，以形成在IC的单独层上。该图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)的目标部分(例如包括一个或多个电路小片(die))上。图案转移典型地通过成像到被提供在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底含有被连续构图的相邻目标部分的网络结构。已知的光刻设备包括所谓的分档器，其中同时将整个图案曝光到目标部分上，辐射每个目标部分；以及所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上的辐射束扫描图案来辐射每个目标部分，并同时同步平行这个方向或反向平行这个方向扫描衬底。还可能通过将图案压印到衬底上，将图案从构图器件转移到衬底上。

当前的光刻设备正在被改进。一方面是为了提高产量(产量指的是在确定时间里通过光刻设备加工衬底的数量)。例如，双台座光刻设备通常比单台座光刻设备的产量高，因为在第一衬底台座上的衬底可以在测量站中测量，同时在第二衬底台座上的另一衬底可以根据之前在测量站测量的数据，在曝光站中曝光。另一方面是为了改善光刻设备的将更小结构(但具有给定的质量)的图案转移到衬底上的能力。例如，与非浸没式光刻设备相比，浸没式光刻设备可以转移更小结构的图案(例如，参见EP1486827，在此并入作为参考)。

在US5,969,441(在此并入作为参考)中，描述了一种双台座光刻设备，其被提供了“H-驱动装置”(例如参见图4，5，X-致动器105和107分别与Y-致动器109，111以及113，115相连)用于它的衬底台座(衬底支架11，13)。所述双台座产生相对高的产量，但是其缺陷在于当在测量站和曝光站之间移动时(第16栏第47-52行)，为了彼此通过，台座需要“台间调换”(根据图4和图5间的转换，其中衬底支架11从元件25脱开并且与元件27连接，衬底支架13从元件27脱开并且元件25连接)。该设备的缺陷是台间调换需要花费时间，因此降低产量。

在US6,341,007(在此在此并入作为参考)中(尤其参见图2，3，4)，描述了一种双台座光刻设备，其在两个测量站之间设置一个曝光站。在曝光站曝光之前，衬底分批在测量站中交替测量。当在测量站和曝光站间移动时，台座不能彼此通过(参见图3)。该光刻设备的缺陷在于它需要两个测量站。因此需要提供两个衬底运输路径。额外的测量站和额外的运输路径导致光刻设备昂贵。而且，系统配置在工厂中占用相对较大的(地板)面积(大足印)。还有一个缺陷是这种构思产生供应性质的问题。而且，该光刻设备不适用于浸没式光刻应用，从而其不能在衬底上投射相对小的结构。

发明内容

本发明希望能够至少部分消除上述缺陷。特别是，本发明的一个方面是提供一种光刻设备，具有相对高的产量并能够将较小结构的图案转移到衬底上。

为了达到发明目的，一种光刻设备包括：

支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；

测量系统，用于在设备的测量站中测量衬底参数；

投射系统，用于在设备的曝光站中，将该所构图的辐射束投射到衬底上；

液体限制系统，用于将液体限制在投射系统的最后元件和衬底之间；

定位系统和至少两个衬底台座，用于支撑衬底，其中构建定位系统用于在测量站和曝光站之间移动台座，其中在曝光站进行曝光期间，根据那个衬底的至少一个测量参数，定位系统对支撑衬底的台座之一定位；

其中，构建并设置台座使其相互协作，以便于执行连接扫描移动，用于将该设备从第一位置带到第二位置，其中在第一位置，所述液体被限制在所述台座中的第一台座支撑的第一衬底和最后元件之间，在第二位置所述液体被限制在两个台座中的第二台座支撑的第二衬底和最后元件之间，从而在连接扫描移动过程中，液体基本被限制在关于最后元件的所述空间内。与使用分离的封闭圆盘，在从所述第一位置到所述第二位置的转移之间限制液体的传统浸式光刻设备相比，连接扫描移动使产量增大。

为了达到发明目的，一种光刻设备包括：

支撑结构，用于支撑构图器件，该构图器件能够将在其截面上的图案赋予辐射束，以形成所构图的辐射束；