[发明专利]在真空或惰性气体环境中用微波辐照制备石墨烯材料的方法

权利要求书

1.一种在真空或惰性气体环境中用微波辐照制备石墨烯材料的方法，其特征是：包括以下制备步骤：

(1)、取干燥的氧化石墨颗粒置于微波室的真空腔内，关闭真空腔顶盖；

(2)、将真空腔内的气压抽至极限真空状态4～8×10^-2Torr；

(3)、将气体注入到真空腔中，直到气压高过100Torr；

(4)、将真空腔的气压抽至极限4～8×10^-2Torr；

(5)、重复步骤(3)和步骤(4)的操作步骤2～3次；直到将真空腔内的残余氧气驱赶干净；

(6)、启动微波辐照，微波功率设置在500～10000W，微波辐照5～300秒，直到氧化石墨爆炸解离；

(7)、关闭微波辐照，将真空腔气压充满到一个大气压状态；

(8)、打开真空腔顶盖，收集爆炸还原的氧化石墨粉末。

2.根据权利要求1所述的在真空或惰性气体环境中用微波辐照制备石墨烯材料的方法，其特征是：所述石墨烯粉末粒径为1～100微米。

3.根据权利要求1所述的在真空或惰性气体环境中用微波辐照制备石墨烯材料的方法，其特征是：所述气体为99.999％氮气或99.99％氩气。

4.根据权利要求1所述的在真空或惰性气体环境中用微波辐照制备石墨烯材料的方法，其特征是：所述真空腔内可设为一个或多个真空室，真空室由全玻璃器皿构成。