[发明专利]组件、调节系统、光刻装置和方法

权利要求书

1.一种包括调节系统和对象的组件，该调节系统包括向被调节区域提供调节流体的流体出口通道，至少部分对象可移入和/或移出该被调节区域，其中，该调节系统构造成根据该对象的位置来调整从该流体出口通道流出的调节流体的流出量。

2.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述对象和所述调节系统构造成彼此配合，以调整从多个流体出口通道流出的调节流体的流出量。

3.如权利要求2所述的组件，其特征在于，所述对象布置成一种非接触式闸，该非接触式闸包括一闸面，该闸面可移动到与至少多个流体出口通道的出口侧相面对的位置，以在没有机械接触所述出口侧的情况下限制从这些流体出口通道流出的流体流动。

4.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述对象至少可移动到第一数量的流体出口通道的出口侧，以及可移动离开该第一数量的流体出口通道的出口侧，其中，所述调节系统布置成：当所述对象已经移动离开这些出口侧时，该第一数量的流体出口通道能将一定量的调节流体排放到该被调节区域中，以及当所述对象移动到这些出口侧时，能基本上限制从该调节系统的该第一数量的流体出口通道流出的流体流动。

5.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述调节系统构造成：在使用过程中，在各流体出口通道的上游入口处的压力比该流体出口通道的相应下游出口侧处的压力最多高大约50Pa。

6.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述调节系统构造成：在使用过程中，在各流体出口通道的上游入口处的压力比该流体出口通道的相应下游出口侧处的压力最多高大约10Pa。

7.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述调节系统构造成：在使用过程中，在各流体出口通道的上游入口处的静压与该流体出口通道的相应下游出口侧处的动压大致相同。

8.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述调节系统构造成：在使用过程中，流过各流体出口通道的流体的雷诺数小于大约150。

9.如权利要求1所述的组件，其特征在于，所述调节系统构造成：在使用过程中，流过各流体出口通道的流体的雷诺数小于大约20。

10.如权利要求1所述的组件，其特征在于，各流体出口通道的长度是相应流体通道的直径的至少10至30倍。