[发明专利]触摸屏面板的制造方法

权利要求书

1.一种触摸屏面板的制造方法，所述方法包括以下步骤：

在透明基板的同一表面上顺序地形成导电层和绝缘层；

使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化以形成具有分开的图案的第一连接图案，绝缘层在第一连接图案上被图案化以暴露第一连接图案的区域；

在具有第一连接图案和绝缘层的透明基板上形成透明电极层；

将透明电极层图案化以形成第一感测图案和第二感测图案，第一感测图案通过沿第一方向连接的第一连接图案的暴露的区域连接到第一连接图案，第二感测图案设置在第一感测图案之间，

其中，第二感测图案与第一感测图案绝缘并沿第二方向连接。

2.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤包括：

使用半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂；

通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除；

通过灰化工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂去除并通过蚀刻工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂下方的绝缘层去除，以暴露第一连接图案的暴露的区域；

通过灰化工艺将绝缘层上剩余的光致抗蚀剂去除。

3.如权利要求2所述的触摸屏面板的制造方法，其中，通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处形成的导电层和绝缘层去除的步骤包括通过干蚀刻工艺将绝缘层去除，然后通过湿蚀刻工艺将导电层去除，

其中，导电层被过蚀刻以使导电层的边定位为比绝缘层的边更向内。

4.如权利要求2所述的触摸屏面板的制造方法，其中，触摸屏面板被划分为触摸屏有效区域和互连区域，在使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤中，在互连区域上形成具有第二高度的光致抗蚀剂，以在将第一连接图案图案化的同时在互连区域上将位置检测线图案化。

5.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，在将透明电极层图案化的步骤中，沿第二方向连接第二感测图案的第二连接图案与第二感测图案一体地形成。

6.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一感测图案与第一连接图案一体地形成。

7.如权利要求5所述的触摸屏面板的制造方法，其中，绝缘层设置在第一连接图案和第二连接图案之间。

8.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一方向与第二方向垂直。

9.如权利要求4所述的触摸屏面板的制造方法，其中，位置检测线由与第一连接图案的材料相同的材料形成。

10.一种触摸屏面板的制造方法，所述触摸屏面板具有顺序地形成在透明基板上的导电层和绝缘层，所述制造方法包括：

使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化，以形成彼此分隔开的第一连接图案以及暴露第一连接图案的区域的绝缘层；

在具有共图案化的导电层和绝缘层的透明基板上形成透明电极层；

将透明电极层图案化以形成第一感测图案和第二感测图案，第一感测图案连接到第一连接图案的暴露的区域，第二感测图案通过第二连接图案彼此连接；

其中，第二感测图案与第一感测图案相邻，

第一连接图案沿第一方向延伸，第二连接图案沿第二方向延伸。

11.如权利要求10所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一方向与第二方向大致垂直。

12.如权利要求10所述的触摸屏面板的制造方法，其中，使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤包括：

使用半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂；

通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除；

通过灰化工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂去除并通过蚀刻工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂下方的绝缘层去除，以暴露第一连接图案的暴露的区域；

通过灰化工艺将绝缘层上剩余的光致抗蚀剂去除。

13.如权利要求12所述的触摸屏面板的制造方法，其中，通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除的步骤包括通过干蚀刻工艺将绝缘层去除，然后通过湿蚀刻工艺将导电层去除，

其中，导电层被过蚀刻以使导电层的边定位为比绝缘层的边更向内。