[发明专利]光刻设备和方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成对应于IC的单层的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上，所述衬底具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层。通常，单独的衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过沿给定方向(“扫描”方向)的辐射束扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。

US6,737,662描述一种光刻设备，在所述光刻设备中，反射镜阵列被用于将所需的角强度分布应用于辐射束，所述辐射束随后被用于将图案投影到衬底的目标部分上。

例如，需要提供一种克服或减缓在US6,737,662中所述的设备的至少一个缺点的光刻设备。

发明内容

根据本发明的实施例，提供一种方法，所述方法包括：提供衬底；采用照射系统提供辐射束；采用图案形成装置将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；以及将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，其中所述照射系统包括：独立可控的元件阵列以及相关的光学部件，所述独立可 控的元件阵列以及相关的光学部件被设置用于将辐射束转换成所需的照射方式；分配方案，所述分配方案用于将不同的独立可控的元件分配给所述照射方式的不同部分，所述分配方案被选择用于提供所述照射方式或所述辐射束的至少一种属性的所需修改。

根据本发明的另一个实施例，提供一种方法，所述方法包括：提供衬底；采用照射系统提供辐射束；采用图案形成装置将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；以及将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，其中所述照射系统包括：独立可控的元件阵列以及相关的光学部件，所述独立可控的元件阵列以及相关的光学部件被设置用于将辐射束转换成所需的照射方式。所述方法还包括：采用所述独立可控的元件阵列将所述辐射束转换成第一照射方式，然后采用所述独立可控的元件阵列将所述辐射束转换成第二照射方式；采用分配方案，以使得将辐射引导到第一照射方式下的位置上的所述独立可控的元件被用于将辐射引导到第二照射方式下的位置上，选择所述位置，以使得所需的、在两种方式之间转换的独立可控的元件的运动少于如果采用随机的分配方案时所需的运动。

根据本发明的另一个实施例，提供一种方法，所述方法包括：提供衬底；采用照射系统提供辐射束；采用图案形成装置将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；以及将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，其中所述照射系统包括：独立可控的元件阵列以及相关的光学部件，所述独立可控的元件阵列以及相关的光学部件被设置用于将辐射束转换成所需的照射方式。所述方法还包括：采用检测器检测辐射束的指向的变化；以及调整所述独立可控的元件以至少部分地修正所述束的指向的变化。

根据本发明的另一个实施例，提供一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，所述照射系统配置用于提供辐射束；支撑结构，所述支撑结构配置用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；衬底台，用于保持衬底；以及投影系统，所述投影系统配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，其中所述照射系统包括独立可控的元件阵列和相关的光学部件，所述独立可控的元件阵列和相关的光学部件设置用于将辐射束转换成所需的照射方式，所述照射系统还包括：控制器，设置用于根据分配方案将不同的独立可控的元件分配 给所述照射方式的不同部分，所述分配方案被选择以提供所述照射方式的至少一种属性的所需的修改。

根据本发明的实施例，提供一种器件制造方法，所述方法包括：采用照射系统调节辐射束，所述调节包括控制照射系统的独立可控的元件阵列和相关的光学部件，以将辐射束转换成所需的照射方式，所述控制包括根据分配方案将不同的独立可控的元件分配给照射方式的不同部分，所述分配方案被选择用于提供照射方式、辐射束或照射方式和辐射束两者中的至少一种属性的所需的修改；以图案在辐射束的横截面上对辐射束进行图案化，以形成图案化的辐射束；以及将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。