[发明专利]涂敷装置有效
申请号: | 201110042994.X | 申请日: | 2011-02-18 |
公开(公告)号: | CN102205296A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 高木善则 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | B05C5/00 | 分类号: | B05C5/00;B05C11/00;B05C13/02;H01L21/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 郭晓东;马少东 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种涂敷装置,在通过向基板的下表面供给气体而使基板浮起的状态下,使基板向一个方向移动,并在基板的表面上涂敷涂敷液,其特征在于,该涂敷装置具有:
涂敷喷嘴,其在向一个方向移动的基板的表面上涂敷涂敷液,
异物检测机构,其相对于所述涂敷喷嘴而配置在基板的搬运方向上的上游侧,来对存在于基板的表面上的异物进行检测,
一对浮起工作台,其形成有向所述一对浮起工作台与基板间的区域喷出气体的喷出口,
精密浮起工作台,其配置在所述一对浮起工作台之间,并形成有向所述精密浮起工作台与基板间的区域喷出气体的喷出口和从所述精密浮起工作台与基板间的区域排出气体的排气口,
第一排气装置,其用于从所述精密浮起工作台中的位于基板的搬运方向上的上游侧的排气口排出气体,
第二排气装置,其用于从所述精密浮起工作台中的相对于通过所述第一排气装置进行排气的排气口而位于所述基板的搬运方向上的下游侧的排气口排出气体。
2.如权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,
所述精密浮起工作台具有:异物检测工作台,其是为了通过所述异物检测机构检测异物而使用的;涂敷工作台,其相比所述异物检测工作台而配置在基板的搬运方向上的下游侧,并是为了通过所述涂敷喷嘴涂敷涂敷液而使用的;
所述第一排气装置从形成在所述异物检测工作台上的排气口进行排气,并且,所述第二排气装置从形成在所述涂敷工作台上的排气口进行排气。
3.如权利要求2所述的涂敷装置,其特征在于,
所述异物检测工作台在基板的搬运方向上的长度大于通过所述涂敷喷嘴涂敷涂敷液的涂敷位置与通过所述异物检测机构检测异物的检测位置在基板的搬运方向上的距离。
4.如权利要求3所述的涂敷装置,其特征在于,该涂敷装置还具有:
第一气体供给装置,其用于从形成在所述异物检测工作台上的喷出口喷出气体,
第二气体供给装置,其用于从形成在所述涂敷工作台上的喷出口喷出气体。
5.如权利要求4所述的涂敷装置,其特征在于,
所述异物检测工作台中的所述排气口和所述喷出口的间距大于所述涂敷工作台中的所述排气口和所述喷出口的间距。
6.如权利要求2所述的涂敷装置,其特征在于,
所述精密浮起工作台还具有相比所述涂敷工作台而配置在基板的搬运方向上的下游侧的防振工作台,并且,
该涂敷装置还具有从形成在所述防振工作台上的排气口进行排气的第三排气装置。
7.如权利要求6所述的涂敷装置,其特征在于,
该涂敷装置还具有用于从形成在所述防振工作台上的喷出口喷出气体的第三气体供给装置。
8.如权利要求7所述的涂敷装置,其特征在于,
所述防振工作台中的所述排气口和所述喷出口的间距大于所述涂敷工作台中的所述排气口和所述喷出口的间距。
9.如权利要求2所述的涂敷装置,其特征在于,
所述涂敷工作台的上表面的平坦度高于所述异物检测工作台以及所述浮起工作台的上表面的平坦度。
10.如权利要求9所述的涂敷装置,其特征在于,
所述涂敷工作台的基板保持高度是该涂敷工作台的平坦度的正值的2~4倍。
11.如权利要求10所述的涂敷装置,其特征在于,
所述涂敷工作台的上表面的平坦度是±4~±8μm,基板保持高度是16~32μm。
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