[发明专利]光拾取装置无效
申请号: | 201110043000.6 | 申请日: | 2011-02-21 |
公开(公告)号: | CN102222510A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 加纳康行;细川哲央 | 申请(专利权)人: | 三洋电机株式会社;三洋光学设计株式会社 |
主分类号: | G11B7/09 | 分类号: | G11B7/09;G11B7/12 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 拾取 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种光拾取装置,特别是涉及一种适合用在双波长激光入射到一个物镜的光拾取装置。
背景技术
现在,CD(Compact Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)等各种光盘已进入商品化。随着这样的盘的多样化,可与不同的光盘相对应的互换型的光拾取装置正在开发中。
在这种光拾取装置中,不同波长的激光分别照射到所对应的盘。该情况下,可使用在一个CAN内收容有例如两个激光元件的所谓的多发光型的半导体激光器(例如,参照专利文献1)。从各激光元件以光轴相互错开的状态射出各波长的激光。光拾取装置的光学系统例如以一方的激光的光轴为基准进行布局。该情况下,另一方激光以光轴错开的状态入射到准直透镜及物镜。
另外,在光拾取装置中,存在彗差的问题(例如,专利文献2)。彗差随着盘的保护层的厚度的增加而变大。另外,彗差随着物镜的数值孔径的增加而变大,另外,还随着激光波长的缩短而变大。另外,彗差还因物镜的整形误差而产生。在物镜由树脂材料形成的情况下,因整形误差而产生的彗差的大小及发生方向,在每个成型棒(ロツド)不同。
专利文献1:日本特开2005-203048号公报
专利文献2:日本特开平11-23960号公报
物镜固有的彗差可通过使物镜倾斜配置且产生反方向的彗差而得到抑制。但是,若这样使物镜倾斜,则由于激光的光轴从物镜的光轴偏倾,因此产生非点像差。特别是如上所述,在双波长的激光入射到物镜的情况下,在光轴错开的状态下入射到准直透镜的一方的激光就从斜方向入射到物镜。因此,若为了消除彗差而使物镜倾斜,则从斜方向入射的激光所对应的非点像差进一步增加之虞存在。
发明内容
本发明是鉴于这样的课题而设立的,其目的在于,提供一种可顺畅地抑制彗差和非点像差的光拾取装置。
本发明的主要方式涉及一种可与不同类型的光盘对应的光拾取装置。本实施方式的光拾取装置具备:第一激光光源,其将射出第一激光的第一激光元件和射出波长不同于所述第一激光的第二激光的第二激光元件在同一CAN内按照射出方向相同的方式收容;准直透镜,其入射所述第一激光和所述第二激光;第一物镜,其入射透过所述准直透镜的所述第一激光和所述第二激光;支架,其保持所述第一物镜。所述准直透镜和所述第一物镜按照它们的光轴与所述第一激光的光轴相一致的方式配置。另外,将所述第一物镜按照从与所述支架的基准面平行的状态向抑制所述第一物镜所具有的彗差且抑制在所述第二激光产生的非点像差的方向倾斜的方式安装于所述支架。
另外,所谓“基准面”是指在支架处于中立位置时即支架位于使第一激光对所对应的光盘开始聚焦的位置时,与所述第一激光的光轴相垂直的面。“基准面”既可以实际存在于支架,或者也可以是假想设定于支架的面。在实际的设计中,可将光拾取装置导向光盘装置的导轴并在螺线方向移动的平面设定为“基准面”。
根据本发明可提供一种能够顺畅地抑制彗差和非点像差的光拾取装置。
本发明的特征通过以下所示的实施方式可更加明确。但是,以下的实施方式严格地说只是本发明的一实施方式,本发明乃至各构成要件的用语的含义不受以下实施方式的任何限制。
附图说明
图1是表示实施方式的光拾取装置的构成的图;
图2是表示实施方式的半导体激光器的构成的图;
图3是说明实施方式的物镜倾斜调整机构的图;
图4是说明实施方式的物镜倾斜方法的图;
图5是示意性表示实施方式的固有彗差得以抑制的情况的图;
图6是表示实施方式的物镜倾角和非点像差的关系的图;
图7是表示实施方式的物镜倾斜方法的变更例的图;
图8是表示实施方式的物镜的倾斜方向和DVD光对物镜的入射方向的关系的图;
图9是表示实施方式的物镜的倾斜方向和DVD光对物镜的入射方向的关系的图;
图10是表示实施方式的光拾取装置的构成的变更例的图;
图11是表示实施方式的光拾取装置的构成的变更例的图;
图12是表示实施方式的效果的图;
图13是表示实施方式的效果的图。
符号说明
101…半导体激光器(第二激光光源)
108…BD用物镜(第二物镜)
121…半导体激光器(第一激光光源)
124…准直透镜
127…CD/DVD用物镜(第一物镜)
131…支架
132…物镜驱动器
S0…基准面
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社;三洋光学设计株式会社,未经三洋电机株式会社;三洋光学设计株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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