[发明专利]硅钢片层间电阻双层叠加测试装置有效

专利信息
申请号: 201110044060.X 申请日: 2011-02-24
公开(公告)号: CN102650672A 公开(公告)日: 2012-08-29
发明(设计)人: 胡志远;沈杰;周星;李平 申请(专利权)人: 上海宝钢工业检测公司
主分类号: G01R31/12 分类号: G01R31/12
代理公司: 上海天协和诚知识产权代理事务所 31216 代理人: 张恒康
地址: 201900 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 硅钢片 电阻 双层 叠加 测试 装置
【权利要求书】:

1. 一种硅钢片层间电阻双层叠加测试装置,它包括带有绝缘涂层的上层、下层硅钢片、直流恒流源、数字电压表、插入上层、下层硅钢片的电极和包括压头的压力传递装置,其特征在于,所述上层硅钢片面积和形状和压头一致,所述下层硅钢片的面积大于上层硅钢片的面积,所述电极有四个,四个电极分别接入直流恒电流源和数字电压表,数字电压表测试相叠加的绝缘涂层的电压降。

2.根据权利要求1所述的硅钢片层间电阻双层叠加测试装置,其特征在于,所述压力传递装置为万向节或半球曲轴。

3.根据权利要求1所述的硅钢片层间电阻双层叠加测试装置,其特征在于,所述压头表面还设有绝缘层。

4.根据权利要求1或3所述的硅钢片层间电阻双层叠加测试装置,其特征在于,所述压头内部设有磁铁。

5.根据权利要求1所述的硅钢片层间电阻双层叠加测试装置,其特征在于,所述四个电极均为金属钻头,该四个金属钻头由上至下分别钻入上下两片硅钢片至硅钢片基体,或分列为上下表面各两个金属钻头,双向相对钻入两个硅钢片基体。

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