[发明专利]壳体及其制作方法

权利要求书

1.一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，其特征在于：该色彩层包括依次形成于基体表面的氮氧铬层和氧化铝层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于54至57之间，a*坐标介于8至10之间，b*坐标介于16至18之间，所述氮氧铬层中Cr、O及N各元素的质量百分含量分别为53％～58％，38％～40％及5％～7％，所述氧化铝层中Al、O各元素的质量百分含量分别为25％～65％及35％～75％。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述氮氧铬层中Cr、O及N各元素的质量百分含量分别为58％，36％及6％，所述氧化铝层中Al、O各元素的质量百分含量分别为65％，35％。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述氮氧铬层中Cr、O、N各元素的质量百分含量分别为55％，38％及7％，所述氧化铝层中Al、O各元素的质量百分含量分别为55％，45％。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述氮氧铬层中Cr、O、N各元素的质量百分含量别为53％，40％及7％，所述氧化铝层中Al、O各元素的质量百分含量分别为25％，75％。

5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体的材质为不锈钢、玻璃、陶瓷或塑料。

6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该色彩层中氮氧化铬层的厚度为0.3～1.0um，氧化铝层的厚度为0.1～0.2um。

7.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述氮氧铬层以中频磁控溅射形成，所述氧化铝层以直流磁控溅射形成。

8.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

于该基体的表面中频磁控溅射形成氮氧铬层，以铬靶为靶材，以氧气和氮气为反应气体，控制氧气的初始流量为20sccm，氮气的初始流量为15sccm，氧气和氮气的流量呈梯度增加，使氮氧铬层中氧和氮的原子百分含量由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增加；

于氮氧铬层上直流磁控溅射形成氧化铝层，制得一包括氮氧铬层及氧化铝层的色彩层，直流磁控溅射形成氧化铝层以铝靶为靶材，以氧气为反应气体，氧气流量为80sccm；

所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于54至57之间，a*坐标介于8至10之间，b*坐标介于16至18之间。

9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该氧化铝层的工艺参数为：设置铝靶的功率为3kw，以氩气为工作气体，氩气的流量为300～400sccm，施加于基体的偏压为-100～200V，溅射20～30min。

10.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成氮氧铬层中氧气和氮气流量梯度增加的方式为：第0～5min内，控制氧气流量为20sccm，氮气流量为15sccm；第5～10min内，控制氧气流量为30sccm，氮气流量为20sccm；第10～15min内，控制氧气流量为40sccm，氮气流量为30sccm；第15～30min内，控制氧气流量为50sccm，氮气流量为35sccm；第30～45min时，控制氧气流量为80sccm，氮气流量为45sccm。