[发明专利]壳体及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有红色外观的壳体及其制作方法。

背景技术

为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰性涂层。相比这些传统工艺，PVD镀膜技术更加绿色环保，且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰性色彩层。

然而现有技术中，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限，目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、白色等色系，能够稳定生产的颜色较少。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种通过镀膜形成红色外观的壳体。

另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。

一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层包括依次形成于基体表面的氮氧铬层和氧化铝层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于54至57之间，a*坐标介于8至10之间，b*坐标介于16至18之间，所述氮氧铬层中Cr、O及N各元素的质量百分含量分别为53％～58％，36％～40％及5％～7％，所述氧化铝层中Al、O各元素的质量百分含量分别为25％～65％及35％～75％。

一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

于该基体的表面中频磁控溅射形成氮氧铬层，以铬靶为靶材，以氧气和氮气为反应气体，控制氧气的初始流量为20sccm，氮气的初始流量为15sccm，氧气和氮气的流量呈梯度增加，使氮氧铬层中氧和氮的原子百分含量由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增加；

于氮氧铬层上直流磁控溅射形成氧化铝层，制得一包括氮氧铬层及氧化铝层的色彩层，直流磁控溅射形成氧化铝层以铝靶为靶材，以氧气为反应气体，氧气流量为80sccm；

所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于54至57之间，a*坐标介于8至10之间，b*坐标介于16至18之间。

相较于现有技术，所述壳体的制备方法在形成色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和溅射时间的控制形成氮氧铬层，之后磁控溅射氧化铝层，通过两个膜层之间的重叠作用，从而达到使色彩层呈现红色的目的，以该方法所制得的壳体呈现出具有吸引力的红色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图；

图2是图1壳体的制作过程中所用镀膜机的俯视示意图。

主要元件符号说明

壳体            10

基体            11

色彩层          13

氮氧铬层        131

氧化铝层        133

镀膜机          100

镀膜室          20

轨迹            21

铬靶            22

铝靶            23

真空泵          30

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括基体11及形成于基体11表面的色彩层13。该色彩层13呈现红色。

基体11的材质可为不锈钢、玻璃、陶瓷或塑料，优选为不锈钢。

色彩层13形成于基体11的表面。该色彩层13包括依次形成于基体11表面的氮氧铬层131和氧化铝层133。

所述氮氧铬层131可通过中频磁控溅射的方式形成。

所述氧化铝层133可通过直流磁控溅射的方式形成。

该氮氧化铬层131的厚度为0.3～1.0um。

氧化铝133的厚度为0.1～0.2um。

该色彩层13肉眼直观呈现红色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于54至57之间，a*坐标介于8至10之间，b*坐标介于16至18之间。

所述氮氧铬层中Cr、O及N各元素的质量百分含量分别为53％～58％，36％～40％及5％～7％。

所述氮氧铬层中Al、O各元素的质量百分含量分别为25％～65％及35％～75％。

本发明壳体10的制作方法包括以下步骤：

提供基体11。基体11的材质可为不锈钢、玻璃、陶瓷或塑料，优选为不锈钢。