[发明专利]等离子清洁装置及等离子清洁方法无效
申请号: | 201110053151.X | 申请日: | 2011-03-04 |
公开(公告)号: | CN102652946A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 郑建邦 | 申请(专利权)人: | 富葵精密组件(深圳)有限公司;臻鼎科技股份有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;H01J37/32 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518103 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 清洁 装置 方法 | ||
1.一种等离子清洁装置,包括壳体、多个正极板、多个负极板、正极电源、负极电源、多个固定件、进气管道以及排气管道,该壳体围合形成一个反应室,该多个正极板与多个负极板间隔排列在该反应室内并将该反应室分隔成多个反应空间,每个反应空间均由相邻的一个正极板和一个负极板构成,该正极电源设置在该反应室外且与该多个正极板电连接,该负极电源设置在该反应室外且与该多个负极板电连接,该多个固定件用于固定多个工件,每个固定件均固定于外壳且位于一个反应空间中,该进气管道包括进气总管及与该进气总管相连通的多个进气分管,该进气总管自壳体外延伸入壳体内,用于向多个进气分管输入气体,每个反应空间内均设置有至少一个进气分管,该至少一个进气分管靠近正极板,每个进气分管均安装有多个进气喷嘴,该排气管道包括排气总管及与该排气总管相连通的多个排气分管,该排气总管自壳体外延伸入壳体内,每个反应空间内均设置有至少一个排气分管,该至少一个排气分管靠近负极板,每个排气分管均开设有多个排气孔。
2.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,该多个正极板与多个负极板相互平行设置。
3.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,该壳体具有顶壁、底壁及连接在该顶壁与底壁之间的第一侧壁和第二侧壁,该顶壁和底壁平行相对,该第一侧壁和第二侧壁平行相对,该多个正极板、多个负极板均与该第一侧壁平行,且该多个正极板与多个负极板固定至顶壁和底壁。
4.如权利要求3所述的等离子清洁装置,其特征在于,该多个正极板、多个负极板与第一侧壁平行的表面均为矩形,该多个正极板与多个负极板的四周边缘均设置有一个绝缘固定框,该绝缘固定框将该正极板或负极板固定至该顶壁和底壁。
5.如权利要求4所述的等离子清洁装置,其特征在于,该绝缘固定框的材质为聚四氟乙烯。
6.如权利要求3所述的等离子清洁装置,其特征在于,每个固定件均包括第一固定块和第二固定块,该第一固定块固定在该壳体的顶壁,且具有第一凹槽,该第二固定块固定在该壳体的底壁,且具有与第一凹槽相对的第二凹槽,该第一凹槽和第二凹槽用于配合固定工件。
7.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,该至少一个进气分管为多个进气分管,该多个进气分管相互平行且等间距设置。
8.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,该多个进气喷嘴等间距设置。
9.如权利要求1所述的等离子清洁装置,其特征在于,该正极电源与负极电源均为射频电源。
10.一种等离子清洁方法,包括步骤:
提供待清洁的多个工件、用于产生等离子体的反应气体以及如权利要求1所述的等离子清洁装置;
利用多个固定件分别将待清洁的多个工件夹紧固定于该多个反应空间内;
对该多个反应空间进行抽真空处理;
使反应气体通过进气管道喷入到该多个反应空间内,开启正极电源和负极电源给该多个正极板和多个负极板供电,以在每个反应空间内分别形成一个高压电场;
每个反应空间的高压电场将反应气体电离生成等离子体,等离子体轰击工件表面以清洁该多个工件;以及
通过排气管道排出等离子体对该多个工件清洁后生成的废气。
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