[发明专利]等离子清洁装置及等离子清洁方法

说明书

技术领域

本发明涉及等离子技术，特别涉及一种等离子清洁装置及等离子清洁方法。

背景技术

等离子清洁装置主要利用等离子体对工件表面或孔壁的污染物进行清洁。一般工作原理为，等离子清洁装置生成高速运动的等离子体，该等离子体对工件表面或孔壁的污染物进行轰击，并发生复杂的物理反应和化学反应，使污染物中的化学键断裂或通过还原反应以分解带走污染物。

目前，等离子清洁装置一般采用栅格式电极来产生等离子体。具体地，反应气体从反应室的入口进入，然后依次通过栅格式电极，并在栅格式电极的多个正极和多个负极间形成的电场中生成等离子体，等离子体对放置在该多个正极与多个负极之间的工件表面或孔壁的污染物进行轰击，反应后的等离子体形成的废气从反应室的出口被抽取排出。然而，由于该等离子清洁装置的反应室只有一个入口和一个出口，反应气体自入口扩散到出口需要一定时间，造成入口处的反应气体的浓度大于出口处的浓度。从而，使得靠近入口处的正极和负极间产生的等离子体的浓度大于靠近出口处的正极和负极间产生的等离子体的浓度，造成等离子体的浓度分布不均，对位于入口附近与出口附近的工件表面或孔壁的清洁能力不同，靠近出口处附近的工件表面或孔壁的污染物不能被有效去除。并且，由于靠近入口处的等离子体与污染物先进行反应，其产生的废气流窜到出口附近的工件表面或孔壁，使得出口附近的等离子体混杂了废气，进一步降低了出口附近的等离子体对工件表面或孔壁的清洁能力，使得出口附近的工件表面或孔壁的污染物更加不能被有效清除。

因此，针对上述问题，有必要提供一种可提高反应室内等离子体浓度分布的均匀性，并可有效清除放置在反应室内各个位置的工件表面或孔壁的污染物的等离子清洁装置及等离子清洁方法。

发明内容

下面将以具体实施例说明一种等离子清洁装置及等离子清洁方法。

一种等离子清洁装置，包括壳体、多个正极板、多个负极板、正极电源、负极电源、多个固定件、进气管道以及排气管道。该壳体围合形成一个反应室。该多个正极板与多个负极板间隔排列在该反应室内并将该反应室分隔成多个反应空间。每个反应空间均由相邻的一个正极板和一个负极板构成。该正极电源设置在该反应室外且与该多个正极板电连接，该负极电源设置在该反应室外且与该多个负极板电连接。该多个固定件用于固定多个工件，每个固定件均固定于外壳且位于一个反应空间中。该进气管道包括进气总管及与该进气总管相连通的多个进气分管。该进气总管自壳体外延伸入壳体内，用于向多个进气分管输入气体。每个反应空间内均设置有至少一个进气分管。该至少一个进气分管靠近正极板，每个进气分管均安装有多个进气喷嘴。该排气管道包括排气总管及与该排气总管相连通的多个排气分管。该排气总管自壳体外延伸入壳体内。每个反应空间内均设置有至少一个排气分管。该至少一个排气分管靠近负极板，每个排气分管均开设有多个排气孔。

一种等离子清洁方法，包括步骤：提供待清洁的多个工件、用于产生等离子体的反应气体以及如上所述的等离子清洁装置；利用多个固定件分别将待清洁的多个工件夹紧固定于该多个反应空间内；对该多个反应空间进行抽真空处理；使反应气体通过进气管道喷入到该多个反应空间内，开启正极电源和负极电源给该多个正极板和多个负极板供电，以在每个反应空间内分别形成一个高压电场；每个反应空间的高压电场将反应气体电离生成等离子体，等离子体轰击工件表面以清洁该多个工件；以及通过排气管道排出等离子体对该多个工件清洁后生成的废气。

相对于现有技术，本技术方案的等离子清洁装置及等离子清洁方法，其利用间隔排列的多个正极板与多个负极板将反应室分隔成多个反应空间，并在该多个反应空间内设置靠近正极板的进气分管、靠近负极板的排气分管，从而可在该多个正极板与多个负极板通电后在每一个反应空间内分别形成一个高压电场，使得进入到每一个反应空间的反应气体生成的等离子体的浓度分布较为均匀，且等离子体的生成速度较快，进而可对每一个反应空间内的工件表面或孔壁的污染物进行有效的轰击清洁，并提高工件的清洁效率。

附图说明

图1是本技术方案实施例提供的等离子清洁装置的示意图。

图2是图1的等离子清洁装置的正极板、负极板、进气分管与排气分管的示意图。

图3是利用图1的等离子清洁装置对工件进行等离子清洁的示意图。

主要元件符号说明

等离子清洁装置      100

壳体                10

正极板              21

负极板              22