[发明专利]多晶硅生产方法和系统有效
申请号: | 201110054590.2 | 申请日: | 2011-03-08 |
公开(公告)号: | CN102674358A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 齐林喜;陈琳;刘占卿 | 申请(专利权)人: | 内蒙古盾安光伏科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/03 | 分类号: | C01B33/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张群峰;杨楷 |
地址: | 015543 内蒙*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 生产 方法 系统 | ||
1.一种多晶硅生产方法,包括:
提供由三氯氢硅和二氯二氢硅组成的硅源,其中三氯氢硅和二氯二氢硅的比例范围在20:1和30:1之间;
加热硅源以使其形成气体三氯氢硅气体和二氯二氢硅气体;
提供氢气;
使三氯氢硅气体和二氯二氢硅气体与氢气混合;
提供设置有硅芯的还原炉;以及
在还原炉中引入混合后的三氯氢硅气体、二氯二氢硅气体与氢气,并且使还原炉中的气体压力为0.4-0.6Mpa,硅芯温度为1080-1150℃,从而在硅芯上还原制备多晶硅。
2.权利要求1的多晶硅生产方法,其中三氯氢硅和二氯二氢硅的纯度均不低于99.9999999%。
3.权利要求1的多晶硅生产方法,其中氢气的纯度不低于99.999%。
4.权利要求1的多晶硅生产方法,还包括步骤:
从还原炉产生的副产物中分离出三氯氢硅和二氯二氢硅;以及
将分离出三氯氢硅和二氯二氢硅重新形成硅源。
5.权利要求1的多晶硅生产方法,其中硅源中的三氯氢硅和二氯二氢硅的比例为20:1。
6.权利要求1的多晶硅生产方法,其中还原炉中的气体压力为0.6Mpa。
7.权利要求1的多晶硅生产方法,其中还原炉中的硅芯温度为1080℃。
8.权利要求4的多晶硅生产方法,其中在从还原炉产生的副产物中分离出三氯氢硅和二氯二氢硅之前,还使副产物与将要进入还原炉的混合后的三氯氢硅气体、二氯二氢硅气体与氢气进行热交换。
9.一种多晶硅生产系统,包括:
设置有硅芯的还原炉;
换热器;
通过换热器与还原炉连通的冷凝器;
与冷凝器连通的冷凝料存储器;
与冷凝料存储器连通的精馏塔;
与精馏塔连通的硅烷存储器;
与硅烷存储器连通的硅烷加热器;
与硅烷加热器连通的混合器;以及
与混合器连通的氢气加热器;
其中混合器也通过换热器与还原炉连通。
10.根据权利要求9所述的多晶硅生产系统,还包括:与氢气加热器连通的氢气存储器和/或与硅烷存储器连通的三氯氢硅存储器。
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