[发明专利]衬底转移容器、气体净化监视工具及具有其的半导体制造设备有效

专利信息
申请号: 201110064115.3 申请日: 2011-03-15
公开(公告)号: CN102194730A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 罗秉国;尹泰植;李建衡;金贤俊;金赫基;金起斗 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/67;H01L21/00;H01L21/66
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李佳;穆德骏
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 衬底 转移 容器 气体 净化 监视 工具 具有 半导体 制造 设备
【权利要求书】:

1.一种衬底转移容器,包括:

壳体,所述壳体包括多个衬底槽,每个衬底槽用于保持经受制造处理的衬底;

门,所述门被构建和布置成:密封所述壳体的内部环境;

所述壳体处的检测单元,所述检测单元用于检测所述内部环境的环境属性;以及

信号传送模块,所述信号传送模块被构造成:传送从所述检测单元接收的检测信号。

2.根据权利要求1所述的衬底转移容器,其中,所述信号传送模块包括被定位在所述壳体的外壁处的无线发射器。

3.根据权利要求2所述的衬底转移容器,其中,所述信号传送模块进一步包括电池,所述电池被定位在所述无线发射器处,用于向所述检测单元提供电力。

4.根据权利要求3所述的衬底转移容器,其中,所述信号传送模块进一步包括用于将所述检测单元和所述无线发射器电连接的柔性线缆,

其中,所述柔性线缆被定位在沿着所述壳体的内壁、开口和外壁。

5.根据权利要求2所述的衬底转移容器,其中,所述检测单元包括质量传感器,所述质量传感器被构造成:确定所述壳体的内部环境中存在的AMC(空气传播的分子污染物)的量。

6.一种半导体制造设备,包括:

洁净室,在所述洁净室中设置有处理装置,所述处理装置用于执行半导体制造处理;以及

衬底转移容器,所述衬底转移容器被构建和布置成:保持经受制造处理的多个衬底并在所述处理装置之间被传输,

其中,所述衬底转移容器包括:

壳体,所述壳体包括多个衬底槽,每个衬底槽用于保持经受制造处理的衬底;

门,所述门被构建和布置成:密封所述壳体的内部环境;

所述壳体处的第一检测单元,所述第一检测单元用于检测所述内部环境的环境属性;以及

第一无线传送模块,所述第一无线传送模块被构造成:传送从所述检测单元接收的检测信号。

7.根据权利要求6所述的半导体制造设备,进一步包括:信号放大器,所述信号放大器被定位在所述洁净室中的多个位置处并被构造成:放大从所述第一无线发射器传送的所述检测信号以及向接收器传送放大的信号。

8.根据权利要求7所述的半导体制造设备,其中,所述信号放大器通过无线电波向所述接收器传送所述放大的信号。

9.根据权利要求7所述的半导体制造设备,其中,基于接收从所述第一无线发射器传送的检测信号的所述信号放大器的重叠接收区域,来确定所述洁净室中的所述衬底转移容器的位置。

10.根据权利要求7所述的半导体制造设备,其中,所述第一检测单元包括:质量传感器,所述质量传感器被构造成:测量在所述壳体的内部环境中存在的AMC的量。

11.根据权利要求7所述的半导体制造设备,进一步包括:

储料器壳体,所述储料器壳体被定位在所述洁净室中;

多个支撑板,所述多个支撑板被垂直地布置在储料器壳体中,用于临时地存储所述衬底转移容器;

净化单元,所述净化单元被分别提供在所述支撑板处,用于向在所述支撑板上放置的所述衬底转移容器提供净化气体;以及

气体净化监视工具,所述气体净化监视工具被构造成:监视所述净化单元是否操作正常,

其中,所述气体净化监视工具包括:

容器,所述容器被构建和布置为放置在所述支撑板中的空支撑板上;

所述容器中的气体腔,所述气体腔被构建并布置成:接收从所述净化单元供应的惰性净化气体,以及选择性地排出接收的惰性净化气体;

第二检测单元,所述第二检测单元被构造成:检测所述气体腔的内部环境的环境属性;以及

第二无线发射器,所述第二无线发射器被构造成:将从所述第二检测单元接收的检测信号无线地传送到所述信号放大器。

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