[发明专利]衬底转移容器、气体净化监视工具及具有其的半导体制造设备

说明书

相关申请的交叉引用

本专利申请要求于2010年3月15日提交的韩国专利申请No.10-2010-0022928和2010年11月18日提交的韩国专利申请No.10-2010-0115102的优先权，以上文件中每个的全部内容均通过引证而合并在此。

技术领域

本公开涉及一种半导体制造装置，并且更具体而言，涉及一种被构造为容纳多个衬底的衬底转移容器、被构造为监视衬底转移容器的气体净化处理的气体净化监视工具、以及包括该衬底转移容器和气体净化监视工具的半导体制造设备。

背景技术

半导体晶片是高精度产品，其应该小心存储和转移，以防止已以其他方式由外部污染物或物理碰撞造成的污染或损伤。具体地，在存储或转移晶片时需要小心看管，以避免由诸如灰尘、湿气和有机物质的杂质造成的晶片表面污染。为此，在存储或转移晶片时，为了保护晶片不被外部物理碰撞和污染，需要在分离的容器中收纳晶片。

发明内容

本公开提供一种构造为用于监视衬底污染的衬底转移容器、气体净化监视工具以及包括衬底转移容器或气体净化监视工具的半导体制造设备。

一方面，一种衬底转移容器，包括：壳体，其包括多个衬底槽，每个衬底槽用于保持经受制造处理的衬底；门，其被构建和布置成用于密封壳体的内部环境；壳体处的检测单元，其用于检测内部环境的环境属性；以及信号传送模块，其被构造为用于传送从检测单元接收的检测信号。

在一个实施例中，信号传送模块包括定位在壳体的外壁处的无线发射器。

在另一个实施例中，信号传送模块进一步包括定位在无线发射器处用于向检测单元提供电力的电池。

在另一个实施例中，信号传送模块进一步包括电连接检测单元和无线发射器的柔性线缆，其中柔性线缆被定位在沿着壳体的内壁、开口和外壁。

在另一个实施例中，检测单元包含质量传感器，该质量传感器被构造成用于确定在壳体的内环境中存在的AMC(空气传播的分子污染物)的量。

在另一方面中，气体净化监视工具被构建和布置成用于监视被构造用于向衬底转移容器中提供净化气体的净化单元是否操作正常。该气体净化监视工具包括：容器；容器中的气体腔，该气体腔被构造并布置为接收从净化单元提供的净化气体并选择性排出该接收的净化气体；检测单元，其被构造成用于检测气体腔的内部环境的环境属性；以及信号传送模块，其被构造成用于无线地传送从检测单元接收的检测信号。

在一个实施例中，气体腔包括：气体腔的腔主体，其定位在容器中；净化气体入口端口，其在腔主体的下部处；以及净化气体出口端口，其在腔主体的上部处，其中净化气体入口端口和净化气体出口端口穿透容器的外壁。

在另一实施例中，净化气体出口端口在与下部和上部之间的净化气体流动方向相垂直的方向上截取的横截面小于在与净化气体流动方向相垂直的方向上截取的腔主体的横截面。

在另一个实施例中，腔主体包括金属材料或金属合金材料。

在另一个实施例中，检测单元包括：湿度传感器，其在净化气体出口端口处，用于测量通过净化气体出口端口排放的净化气体的湿度；以及压力传感器，其在腔主体处，用于测量腔主体中的净化气体压力。

在另一个实施例中，气体净化监视工具进一步包括标识号读取器，其被构造成读取净化单元的标识号，对于该净化单元安装了气体净化监视工具。

在另一方面中，半导体制造设备，包括：洁净室，在所述洁净室中设置有处理装置，所述处理装置用于执行半导体制造处理；以及衬底转移容器，其被构建和布置成用于保持经受制造处理的多个衬底并在处理装置之间被传输，其中衬底转移容器包括：壳体，其包括多个衬底槽，每个衬底槽用于保持经受制造处理的衬底；门，其被构建和布置成密封壳体的内部环境；壳体处的第一检测单元，用于检测内部环境的环境属性；以及第一无线发射器，其被构造成传送从检测单元接收的检测信号。

在一个实施例中，半导体制造设备进一步包括信号放大器，其被定位在洁净室中的多个位置处，并构造成放大从第一无线发射器传送的检测信号，并向接收器传送放大的信号。

在另一个实施例中，信号放大器通过无线电波向接收器传送放大的信号。

在另一个实施例中，基于接收从第一无线发射器传送的检测信号的信号放大器的重叠接收区域来确定洁净室中的衬底转移容器的位置。

在另一个实施例中，第一检测单元包括质量传感器，其被构造成测量在壳体的内部环境中存在的AMC的量。