[发明专利]衬底台的盖、光刻设备的衬底台、光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种用在光刻设备中的盖，所述光刻设备包括具有基本上平坦的上表面的衬底台，凹陷形成在所述基本上平坦的上表面中，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述盖包括基本上平坦的主体，所述主体在使用中围绕所述衬底从所述上表面延伸至所述衬底的上主面的周边部，用于覆盖所述凹陷的边缘与所述衬底的边缘之间的间隙，所述盖包括相对柔性部，所述相对柔性部在使用中围绕所述衬底延伸，所述相对柔性部配置成具有比所述盖的其余部分更低的刚度。

2.根据权利要求1所述的盖，其中所述盖的相对柔性部包括所述盖的区域，在所述区域中，所述盖的厚度小于所述盖的主体的其余部分的厚度。

3.一种用于光刻设备的衬底台，所述衬底台具有基本上平坦的上表面，在所述基本上平坦的上表面中形成凹陷，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述衬底台包括如根据权利要求1至2中任一项所述的盖。

4.一种光刻设备，所述光刻设备包括根据权利要求3所述的衬底台。

5.一种用于光刻设备的衬底台，所述衬底台具有基本上平坦的上表面，在所述基本上平坦的上表面中形成凹陷，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述衬底台包括：

盖，配置成使得在使用中所述盖围绕所述衬底从所述上表面延伸至所述衬底的上主面的周边部，用于覆盖在所述凹陷的边缘与所述衬底的边缘之间的间隙；

致动器系统，配置成在关闭位置和敞开位置之间移动所述盖，在所述关闭位置处，所述盖接触在所述凹陷中支撑的衬底的所述上表面，在所述敞开位置处，所述盖被设置成与所述凹陷中的衬底分开；和

控制器，配置成基于表示围绕所述衬底的周边部的所述衬底的上主面相对于所述衬底台的上表面的高度或围绕所述衬底的周边部的所述衬底台的上表面相对于围绕所述衬底的周边部的所述衬底的上主面的高度的数据，控制所述致动器系统。

6.一种光刻系统，所述光刻系统包括：

根据权利要求5所述的衬底台；和

量测工作站，配置成测量所述高度和提供数据给所述衬底台的控制器，用于控制移动所述盖的致动器系统。

7.一种用于光刻设备的衬底台，所述衬底台具有基本上平坦的上表面，在所述基本上平坦的上表面中形成凹陷，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述衬底台包括：

盖，配置使得在使用中所述盖围绕所述衬底从所述上表面延伸至所述衬底的上主面的周边部，用于覆盖在所述凹陷的边缘与所述衬底的边缘之间的间隙；和

在所述凹陷中的支撑部，配置成支撑在所述凹陷内的所述衬底，所述支撑部配置成使得用于支撑所述衬底的周边部的所述支撑部的刚度大于用于支撑所述衬底的中心区域的所述支撑部的刚度。

8.一种光刻设备，所述光刻设备包括根据权利要求7所述的衬底台。

9.一种将衬底装载到光刻设备的衬底台上的方法，所述衬底台具有基本上平坦的上表面，在所述基本上平坦的上表面中形成凹陷，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述方法包括以下步骤：

装载衬底至所述凹陷；和

使用致动器系统移动盖至一位置，在所述位置处，所述盖围绕所述衬底从所述衬底台的上表面延伸至所述衬底的上主面的周边部，用于覆盖所述凹陷的边缘与所述衬底的边缘之间的间隙，

其中基于表示围绕所述衬底的周边部的所述衬底的上主面相对于所述衬底台的上表面的高度或围绕所述衬底的周边部的所述衬底台的上表面相对于围绕所述衬底的周边部的所述衬底的上主面的高度的数据，控制所述致动器系统。

10.一种用于光刻设备的衬底台，所述衬底台具有基本上平坦的上表面，在所述基本上平坦的上表面中形成凹陷，所述凹陷配置成容纳和支撑衬底，所述衬底台包括：

盖，配置使得在使用中所述盖围绕所述衬底从所述上表面延伸至所述衬底的上主面的周边部，用于覆盖所述凹陷的边缘与所述衬底的边缘之间的间隙；和

支撑件，配置成支撑所述盖，

其中所述盖可释放地连接至所述支撑件。