[发明专利]彩色滤光片及其制造方法有效
申请号: | 201110069630.0 | 申请日: | 2011-03-22 |
公开(公告)号: | CN102645689A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 陆金波;薛建设 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩色 滤光 及其 制造 方法 | ||
1.一种彩色滤光片的制造方法,其特征在于,该方法包括:
在第一透明基板上形成第一图形膜层;在第二透明基板上形成透明膜层,在透明膜层上形成第二图形膜层;
将透明膜层与第二透明基板分离;将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,第一图形膜层为黑矩阵图形,第二图形膜层为像素树脂层;或者,第一图形膜层为像素树脂层,第二图形膜层为黑矩阵图形;
像素树脂层的形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称;将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合后,像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,在第一图形膜层为黑矩阵图形,第二图形膜层为像素树脂层时,在透明膜层上形成像素树脂层包括:
在透明膜层上涂覆像素树脂;
使用刻画有图形的掩模板在像素树脂上曝光并显影,得到像素树脂层;像素树脂层的图形形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称。
4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,在第一图形膜层为像素树脂层,第二图形膜层为黑矩阵图形时,在透明膜层上形成黑矩阵图形包括:
在透明膜层上涂覆黑矩阵用光阻剂;
使用刻画有图形的掩模板在黑矩阵用光阻剂上曝光并显影,得到黑矩阵图形,黑矩阵图形所围成的区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称。
5.如权利要求1-4中任一所述的方法,其特征在于,所述将透明膜层与第二透明基板分离包括:
采用揭片机将形成有第二图形膜层的透明膜层从第二透明基板上剥离下来;或者,
将第二透明基板放入沸水中,以使透明膜层与第二透明基板分离;或者,
在第二透明基板上的小孔处通入空气,以使透明膜层与第二透明基板分离,所述小孔位于第二透明基板上未涂覆有第二图形膜层的位置。
6.如权利要求1-4中任一所述的方法,其特征在于,在将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合之后,该方法进一步包括:
在透明膜层上形成用于公共电极的透明导电层。
7.如权利要求1-4中任一所述的方法,其特征在于,第一图形膜层与第二图形膜层的厚度相同。
8.如权利要求1-4中任一所述的方法,其特征在于,所述透明膜层为:
环氧树脂透明薄膜,或聚酰亚胺透明薄膜。
9.一种彩色滤光片,包括透明基板、形成在透明基板上的黑矩阵图形和像素树脂层,其特征在于,该彩色滤光片还包括形成在黑矩阵图形和像素树脂层上的透明膜层。
10.如权利要求9所述的彩色滤光片,其特征在于,像素树脂层位于黑矩阵图形所围成的像素区域内,并且黑矩阵图形的厚度与像素树脂层的厚度相同。
11.如权利要求9所述的彩色滤光片,其特征在于,在透明膜层上还形成有用于公共电极的透明导电层。
12.如权利要求9或10或11所述的彩色滤光片,其特征在于,黑矩阵图形和像素树脂层的厚度为:1-5微米。
13.如权利要求9或10或11所述的彩色滤光片,其特征在于,所述透明膜层为:
环氧树脂透明薄膜,或聚酰亚胺透明薄膜。
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