[发明专利]光学零件多层镀膜新工艺无效
申请号: | 201110073358.3 | 申请日: | 2011-03-25 |
公开(公告)号: | CN102692657A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 马云燕 | 申请(专利权)人: | 江苏双仪光学器材有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212300 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 零件 多层 镀膜 新工艺 | ||
1.一种光学零件多层镀膜新工艺,包括抽真空工序和镀膜工序,其特征在于:所述镀膜工序的镀层为六层,第一层为H4,第二层为AL2O3,第三层为H4,第四层为AL2O3,第五层为H4,第六层为MgF2。
2.根据权利要求1所述的一种光学零件多层镀膜新工艺,其特征在于:所述各镀层的膜厚初始值依次分别为:0.5,0.5,1,0.5,0.5,1。
3.根据权利要求1所述的一种光学零件多层镀膜新工艺,其特征在于:所述抽真空工序的初始真空度为4.5*10-4Pa-7.0*10-4Pa。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种光学零件多层镀膜新工艺,其特征在于:所述镀膜工序的参数还包括温度、加氧量和镀膜速率,其温度控制为290-320度,加氧量为30-50标准毫升/分钟(sccm),镀膜速率为0.5nm/s。
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