[发明专利]光学零件多层镀膜新工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学零件镀膜工艺，尤其是光学镜片的多层镀膜新工艺。

背景技术

光学镜片镀膜常用工艺包括抽真空工序和镀膜工序，其中为了达到减反射要求，镀膜常用MgF₂和H₄为镀材，一层MgF₂一层H₄这样叠加，为了达到宽波域减反射要求(400-700nm R≤0.4％；700-750nm R≤1.3％)，通常要镀7-9层，成本高，而且减反射效果还不理想。

发明内容

针对上述存在问题，本发明提供一种光学零件多层镀膜新工艺，通过镀材和镀层的改变，达到节约成本，提高减反射效果的目的。

本发明采取以下技术方案，一种光学零件多层镀膜新工艺，包括抽真空工序和镀膜工序，其特征在于：所述镀膜工序的镀层为六层，第一层为H₄，第二层为AL₂O₃，第三层为H₄，第四层为AL₂O₃，第五层为H₄，第六层为MgF₂。

本发明的优点是：由于采用H₄、AL₂O₃和MgF₂为镀材，所以只需6层就可以达到减反射要求，节约了成本，提高了减反射效果。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明。

实施例一

一种光学零件多层镀膜新工艺，包括抽真空工序和镀膜工序，其特征在于：所述镀膜工序的镀层为六层，第一层为H₄，第二层为AL₂O₃，第三层为H₄，第四层为AL₂O₃，第五层为H₄，第六层为MgF₂。

经本发明光学零件多层镀膜新工艺制作而成的光学镜片的减反射膜指标为：400-700nm R＝0.3-0.35％；700-750nm R≤1.0％

实施例二

同实施例一的一种光学零件多层镀膜新工艺，其不同之处在于：各镀层的膜厚初始值依次分别为：0.5，0.5，1，0.5，0.5，1。

实施例三

同实施例一的一种光学零件多层镀膜新工艺，其不同之处在于：所述抽真空工序的初始真空度为4.5*10^-4Pa-7.0*10^-4Pa(在4.5*10^-4Pa与7.0*10^-4Pa之间的任一初始真空度都可以)。常规一般为3.0*10^-3Pa。

实施例四

同实施例一的一种光学零件多层镀膜新工艺，其不同之处在于：所述镀膜工序的参数还包括温度、加氧量和镀膜速率，其温度控制为290-320度，加氧量为30-50标准毫升/分钟(sccm)，镀膜速率为0.5nm/s。

除上述实施例外，本发明还可以有其它实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围内。